| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 前言 | 第8-18页 |
| 1.1 二氧化钍简介 | 第8页 |
| 1.2 二氧化钍的合成 | 第8-11页 |
| 1.3 锕系元素氧化物研究现状 | 第11-17页 |
| 1.3.1 锕系元素氧化物体相块材研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3.2 锕系元素氧化物表面及其吸附小分子的研究现状 | 第13-17页 |
| 1.4 本论文研究目的 | 第17-18页 |
| 第二章 ThO_2体相及其表面的构型和电子结构 | 第18-29页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 计算方法和模型 | 第18-19页 |
| 2.3 计算结果与讨论 | 第19-28页 |
| 2.3.1 ThO_2体相的电子结构 | 第19-21页 |
| 2.3.2 ThO_2清洁表面 | 第21-24页 |
| 2.3.2.1 ThO_2(111)表面的弛豫情况 | 第21-22页 |
| 2.3.2.2 ThO_2(110)表面的弛豫情况 | 第22-23页 |
| 2.3.2.3 ThO_2(100)表面的弛豫情况 | 第23-24页 |
| 2.3.3 电子结构分析 | 第24-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 单个水分子在ThO_2不同表面的吸附构型和电子结构 | 第29-50页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 计算方法 | 第29-30页 |
| 3.3 计算结果与讨论 | 第30-49页 |
| 3.3.1 H_2O分子在ThO_2(111)表面的吸附 | 第30-38页 |
| 3.3.1.1 H_2O分子在ThO_2(111)表面的从头算分子动力学模拟 | 第30-33页 |
| 3.3.1.2 H_2O分子在ThO_2(111)表面的吸附构型和电子结构 | 第33-38页 |
| 3.3.2 H_2O分子在ThO_2(110)表面的吸附 | 第38-41页 |
| 3.3.2.1 H_2O分子在ThO_2(110)表面的从头算分子动力学模拟 | 第38-39页 |
| 3.3.2.2 H_2O分子在ThO_2(110)表面的吸附构型和电子结构 | 第39-41页 |
| 3.3.3 H_2O分子在ThO_2(100)表面的吸附 | 第41-44页 |
| 3.3.3.1 H_2O分子在ThO_2(100)表面的从头算分子动力学模拟 | 第41-42页 |
| 3.3.3.2 H_2O分子在ThO_2(100)表面的吸附构型和电子结构 | 第42-44页 |
| 3.3.4 单个H_2O分子在ThO_2表面吸附构型的高分辨电子能量损失谱(HREELS)模拟 | 第44-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 多个水分子在ThO_2不同表面吸附行为的理论研究 | 第50-75页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 计算方法和模型 | 第50-51页 |
| 4.3 计算结果与讨论 | 第51-73页 |
| 4.3.1 不同覆盖度下H_2O分子在ThO_2(111)表面的吸附 | 第51-57页 |
| 4.3.2 不同覆盖度下H_2O分子在ThO_2(110)表面的吸附 | 第57-63页 |
| 4.3.3 不同覆盖度下H_2O分子在ThO_2(100)表面的吸附 | 第63-68页 |
| 4.3.4 不同覆盖度下H_2O在ThO_2表面最稳定吸附构型的高分辨电子能量损失谱(HREELS)模拟 | 第68-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 CO_2分子在ThO_2不同表面的吸附构型和电子结构 | 第75-87页 |
| 5.1 引言 | 第75页 |
| 5.2 计算方法和模型 | 第75-76页 |
| 5.3 计算结果与讨论 | 第76-85页 |
| 5.3.1 气相二氧化碳分子构型优化结果 | 第76页 |
| 5.3.2 二氧化碳分子在ThO_2(111)表面的吸附 | 第76-78页 |
| 5.3.3 二氧化碳分子在ThO_2(110)表面的吸附 | 第78-85页 |
| 5.3.4 二氧化碳分子在ThO_2(100)表面的吸附 | 第85页 |
| 5.4 本章小结 | 第85-87页 |
| 第六章 总结 | 第87-89页 |
| 6.1 清洁表面 | 第87页 |
| 6.2 H_2O分子的吸附 | 第87-88页 |
| 6.3 CO_2分子的吸附 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 个人简历 | 第94-95页 |
| 在读期间已发表和录用的论文 | 第95页 |
