| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 Si_3N_4结构与性能 | 第14-15页 |
| 1.2 Si_3N_4基导电陶瓷的研究背景 | 第15-17页 |
| 1.3 Si_3N_4基导电陶瓷的研究进展 | 第17-27页 |
| 1.3.1 以钛基化合物为导电相的Si_3N_4基陶瓷 | 第17-22页 |
| 1.3.2 以锆基化合物为导电相的Si_3N_4基陶瓷 | 第22-23页 |
| 1.3.3 Si_3N_4-MoSi_2导电陶瓷 | 第23-25页 |
| 1.3.4 以纳米碳质材料为导电相的Si_3N_4基陶瓷 | 第25-27页 |
| 1.4 Si_3N_4基导电陶瓷的研究内容与意义 | 第27-30页 |
| 1.4.1 关键问题 | 第27-28页 |
| 1.4.2 研究内容与意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验过程与性能表征 | 第30-36页 |
| 2.1 实验原材料 | 第30页 |
| 2.2 实验过程与设备 | 第30-32页 |
| 2.2.1 实验过程 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第31-32页 |
| 2.3 性能表征与分析方法 | 第32-36页 |
| 2.3.1 密度 | 第32-33页 |
| 2.3.2 硬度和断裂韧性 | 第33-34页 |
| 2.3.3 抗弯强度 | 第34页 |
| 2.3.4 电阻率 | 第34-35页 |
| 2.3.5 物相分析及微观结构分析 | 第35-36页 |
| 第三章 Si_3N_4-TiC和Si_3N_4-TiN陶瓷的制备及其性能研究 | 第36-44页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 实验 | 第37-38页 |
| 3.2.1 原料与配方 | 第37页 |
| 3.2.2 试样的制备 | 第37页 |
| 3.2.3 测试与分析 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-43页 |
| 3.3.1 物相分析 | 第38-39页 |
| 3.3.2 显微结构与致密度 | 第39-41页 |
| 3.3.3 力学性能 | 第41-42页 |
| 3.3.5 电火花加工性能 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小节 | 第43-44页 |
| 第四章 Si_3N_4-TiC_(0.5)N_(0.5)陶瓷的制备及其性能研究 | 第44-59页 |
| 4.1 引言 | 第44-45页 |
| 4.2 实验 | 第45-48页 |
| 4.2.1 原料与配方 | 第45-46页 |
| 4.2.2 试样的制备 | 第46页 |
| 4.2.3 刀具的制备 | 第46-47页 |
| 4.2.4 测试与分析 | 第47-48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-57页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第48页 |
| 4.3.2 显微结构与致密度 | 第48-50页 |
| 4.3.3 力学性能与电学性能 | 第50-52页 |
| 4.3.4 导电陶瓷刀具性能评价 | 第52-55页 |
| 4.3.5 PVD涂层导电陶瓷刀具性能评价 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小节 | 第57-59页 |
| 第五章 Si_3N_4-ZrB_2陶瓷的制备及其性能研究 | 第59-70页 |
| 5.1 引言 | 第59-60页 |
| 5.2 实验 | 第60-61页 |
| 5.2.1 实验原料与配方 | 第60页 |
| 5.2.2 试样的制备与热处理 | 第60-61页 |
| 5.2.3 测试与分析 | 第61页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第61-69页 |
| 5.3.1 Si_3N_4-ZrB_2陶瓷的高温反应 | 第61-64页 |
| 5.3.2 Si_3N_4-ZrB_2陶瓷的致密化 | 第64-66页 |
| 5.3.3 Si_3N_4-ZrB_2陶瓷的热稳定性 | 第66-69页 |
| 5.4 本章小节 | 第69-70页 |
| 总结 | 第70-73页 |
| 参考文献 | 第73-84页 |
| 攻读硕士期间发表的论文与申请的专利 | 第84-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
