陶瓷-炭复合膜分离层的孔结构调制与性能表征
致谢 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第16-32页 |
1.1 研究背景与意义 | 第16-18页 |
1.2 文献综述 | 第18-31页 |
1.3 主要研究内容 | 第31-32页 |
2 实验 | 第32-46页 |
2.1 实验原料与仪器设备 | 第32-34页 |
2.2 实验方法 | 第34-41页 |
2.3 表征方法 | 第41-46页 |
3 致密型复合膜分离层的制备 | 第46-64页 |
3.1 分离层前驱体的热解特性 | 第46-48页 |
3.2 成膜条件对复合膜性能的影响 | 第48-53页 |
3.3 炭化条件对复合膜性能的影响 | 第53-59页 |
3.4 复合膜的微观结构 | 第59-62页 |
3.5 致密型复合膜的形成机理分析 | 第62-63页 |
3.6 本章小结 | 第63-64页 |
4 复合膜分离层的孔结构调制 | 第64-80页 |
4.1 KOH活化法调制分离层孔结构 | 第64-70页 |
4.2 水蒸气活化法调制分离层孔结构 | 第70-76页 |
4.3 调制后分离层的微观结构 | 第76-78页 |
4.4 分离层孔结构调制的机理分析 | 第78页 |
4.5 本章小结 | 第78-80页 |
5 结论与创新点 | 第80-82页 |
5.1 结论 | 第80-81页 |
5.2 创新点 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-89页 |
作者简历 | 第89-91页 |
学位论文数据集 | 第91页 |