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氧化镁二次电子发射体测试方法研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
1 绪论第10-14页
    1.1 二次电子的介绍与研究内容第10-12页
        1.1.1 二次电子发射研究背景及现状第10-11页
        1.1.2 二次电子的应用第11-12页
    1.2 电子枪的介绍和研究方法第12页
    1.3 氧化镁二次电子发射系数测量第12-13页
    1.4 论文的结构安排第13-14页
2 二次发射系数的分析与计算第14-24页
    2.1 二次电子发射基本理论与计算第14-17页
    2.2 计算二次电子发射系数第17-23页
        2.2.1 二次电子发射系数与原电子能量的关系第17-21页
        2.2.2 二次电子发射系数与原电子入射角度的关系第21-23页
    2.3 本章小结第23-24页
3 电子枪的结构及内部电势分布可视化模拟第24-33页
    3.1 电子枪结构及作用第24-26页
        3.1.1 电子枪的结构第24-25页
        3.1.2 电子枪的作用第25-26页
    3.2 电子枪内部电场可视化模拟第26-32页
        3.2.1 用有限差分法求解轴对称电场第26-31页
        3.2.2 对电子枪内部电场可视化模拟相关程序第31页
        3.2.3 程序运行结果第31-32页
    3.3 本章小结第32-33页
4 电子枪内部电子轨迹模拟第33-41页
    4.1 龙格库塔法原理与应用第33-37页
        4.1.1 四阶龙格库塔法第33-34页
        4.1.2 带电粒子的运动方程第34-35页
        4.1.3 利用四阶龙格库塔公式对电子轨迹进行求解第35-37页
    4.2 电子枪内部电子轨迹可视化模拟第37-40页
        4.2.1 运动龙格库塔法求解电子轨迹的相关程序流程第37-38页
        4.2.2 程序运行结果第38-40页
    4.3 本章小结第40-41页
5 测量氧化镁二次电子发射系数实验第41-47页
    5.1 实验介绍和装置图第41-42页
    5.2 测量步骤第42-43页
    5.3 实验数据与结果第43-46页
    5.4 实验误差可能来源分析第46页
    5.5 本章小结第46-47页
6 总结与展望第47-48页
参考文献第48-50页
附录第50-55页
作者简历第55页

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