致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7页 |
1 绪论 | 第10-14页 |
1.1 二次电子的介绍与研究内容 | 第10-12页 |
1.1.1 二次电子发射研究背景及现状 | 第10-11页 |
1.1.2 二次电子的应用 | 第11-12页 |
1.2 电子枪的介绍和研究方法 | 第12页 |
1.3 氧化镁二次电子发射系数测量 | 第12-13页 |
1.4 论文的结构安排 | 第13-14页 |
2 二次发射系数的分析与计算 | 第14-24页 |
2.1 二次电子发射基本理论与计算 | 第14-17页 |
2.2 计算二次电子发射系数 | 第17-23页 |
2.2.1 二次电子发射系数与原电子能量的关系 | 第17-21页 |
2.2.2 二次电子发射系数与原电子入射角度的关系 | 第21-23页 |
2.3 本章小结 | 第23-24页 |
3 电子枪的结构及内部电势分布可视化模拟 | 第24-33页 |
3.1 电子枪结构及作用 | 第24-26页 |
3.1.1 电子枪的结构 | 第24-25页 |
3.1.2 电子枪的作用 | 第25-26页 |
3.2 电子枪内部电场可视化模拟 | 第26-32页 |
3.2.1 用有限差分法求解轴对称电场 | 第26-31页 |
3.2.2 对电子枪内部电场可视化模拟相关程序 | 第31页 |
3.2.3 程序运行结果 | 第31-32页 |
3.3 本章小结 | 第32-33页 |
4 电子枪内部电子轨迹模拟 | 第33-41页 |
4.1 龙格库塔法原理与应用 | 第33-37页 |
4.1.1 四阶龙格库塔法 | 第33-34页 |
4.1.2 带电粒子的运动方程 | 第34-35页 |
4.1.3 利用四阶龙格库塔公式对电子轨迹进行求解 | 第35-37页 |
4.2 电子枪内部电子轨迹可视化模拟 | 第37-40页 |
4.2.1 运动龙格库塔法求解电子轨迹的相关程序流程 | 第37-38页 |
4.2.2 程序运行结果 | 第38-40页 |
4.3 本章小结 | 第40-41页 |
5 测量氧化镁二次电子发射系数实验 | 第41-47页 |
5.1 实验介绍和装置图 | 第41-42页 |
5.2 测量步骤 | 第42-43页 |
5.3 实验数据与结果 | 第43-46页 |
5.4 实验误差可能来源分析 | 第46页 |
5.5 本章小结 | 第46-47页 |
6 总结与展望 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
附录 | 第50-55页 |
作者简历 | 第55页 |