| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1．1 引言 | 第9-10页 |
| 1．2 电弧离子镀 | 第10-11页 |
| 1．3 脉冲偏压电弧离子镀 | 第11-12页 |
| 1．4 TiN基多组元薄膜及多层薄膜研究进展 | 第12-13页 |
| 1．5 电弧离子镀存在的问题与解决现状 | 第13-15页 |
| 1．6 论文工作的内容与意义 | 第15-17页 |
| 第二章 实验设备与实验方法 | 第17-22页 |
| 2．1 实验设备简介 | 第17-18页 |
| 2．2 实验方法 | 第18-22页 |
| 2．2．1 脉冲偏压及偏流的波形检测 | 第18页 |
| 2．2．2 基体材料的选择原则、制备及预处理 | 第18-20页 |
| 2．2．3 薄膜材料的选择及制备工艺 | 第20-21页 |
| 2．2．4 薄膜结构及性能分析测试方法 | 第21-22页 |
| 第三章 (TiNb)N多组分薄膜的制备工艺、结构及性能 | 第22-46页 |
| 3．1 前言 | 第22-23页 |
| 3．2 TiN膜层的制备工艺 | 第23-25页 |
| 3．2．1 TiN膜层的沉积工艺参数 | 第23页 |
| 3．2．2 TiN膜层的成分、结构与性能 | 第23-25页 |
| 3．3 (TiNb)N薄膜的制备及性能测试 | 第25-40页 |
| 3．3．1 膜层的沉积工艺参数 | 第25-26页 |
| 3．3．2 (TiNb)N薄膜成分分析 | 第26-27页 |
| 3．3．3 (TiNb)N薄膜的相结构分析 | 第27-34页 |
| 3．3．4 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第34-36页 |
| 3．3．5 (TiNb)N薄膜显微硬度测试 | 第36-38页 |
| 3．3．6 (TiNb)N薄膜与基体结合强度的测试分析 | 第38-40页 |
| 3．4 脉冲偏压强度对(TiNb)N薄膜相结构影响的讨论 | 第40-45页 |
| 3．4．1 化合物相的化学自由能 | 第40-43页 |
| 3．4．2 荷能粒子轰击效应 | 第43-45页 |
| 3．5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 电弧离子镀(TiNb)N结构调制多层薄膜的初步研究 | 第46-51页 |
| 4．1 前言 | 第46-48页 |
| 4．2 (TiNb)N结构调制多层薄膜的制备工艺 | 第48页 |
| 4．3 (TiNb)N结构调制多层薄膜的力学性能测试及分析 | 第48-49页 |
| 4．4 (TiNb)N多层薄膜的调制结构探讨及分析 | 第49-50页 |
| 4．5 本章小结： | 第50-51页 |
| 第五章 (TiCr)N、(TiZr)N薄膜的制备及其结构与性能 | 第51-66页 |
| 5．1 前言 | 第51页 |
| 5．2 (TiCr)N薄膜的制备及性能 | 第51-59页 |
| 5．2．1 沉积工艺对(TICr)N膜层成分的影响 | 第51-52页 |
| 5．2．2 (TiCr)N薄膜的相结构分析 | 第52-58页 |
| 5．2．3(TiCr)N薄膜的显微硬度测试 | 第58-59页 |
| 5．3 (TiZr)N薄膜的制备及性能 | 第59-63页 |
| 5．3．1 沉积工艺参数对(TiZr)N膜层成分的影响 | 第59-60页 |
| 5．3．2 (TiZr)N薄膜相结构分析 | 第60-61页 |
| 5．3．3 (TiZr)N薄膜显微硬度测试 | 第61-62页 |
| 5．3．4 (TiZr)N薄膜划痕结合力测试 | 第62-63页 |
| 5．4 (TiMe)N多组分膜层相结构的热力学讨论 | 第63-65页 |
| 5．5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-75页 |
| 6．1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6．2 工作展望 | 第67-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第76页 |
