| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 符号说明 | 第11-12页 |
| 1 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 非线性光学材料概述 | 第13-19页 |
| 1.2.1 光学非线性概述 | 第13-16页 |
| 1.2.2 有机非线性光学材料分类 | 第16-18页 |
| 1.2.3 有机非线性光学材料应用 | 第18-19页 |
| 1.3 本文研究目的和主要内容 | 第19-21页 |
| 2 有机聚合物光学材料光学特性测量方法与系统搭建 | 第21-38页 |
| 2.1 有机聚合物光学材料线性光学特性测量 | 第21-23页 |
| 2.1.1 薄膜的吸收特性 | 第21页 |
| 2.1.2 透射光谱法测量薄膜线性折射率和厚度 | 第21-23页 |
| 2.2 有机聚合物光学材料三阶非线性光学特性测量 | 第23-37页 |
| 2.2.1 光学材料三阶非线性极化率测量方法 | 第23-24页 |
| 2.2.2 Z扫描系统搭建 | 第24-28页 |
| 2.2.3 Z扫描理论 | 第28-37页 |
| 2.3 结论 | 第37-38页 |
| 3 基于二茂铁的金属配合物合成、薄膜制备及光学性质研究 | 第38-53页 |
| 3.1 基于二茂铁的金属配合物的材料概况 | 第38-39页 |
| 3.2 基于二茂铁的金属配合物的光学薄膜制备 | 第39-45页 |
| 3.2.1 二茂铁基衍生物的合成 | 第39-41页 |
| 3.2.2 二茂铁衍生物的光学薄膜制备 | 第41-45页 |
| 3.3 二茂铁金属配合物光学薄膜线性研究 | 第45-46页 |
| 3.3.1 薄膜的紫外-可见吸收光谱 | 第45-46页 |
| 3.3.2 薄膜光学常数 | 第46页 |
| 3.4 二茂铁金属配合物光学薄膜三阶非线性研究 | 第46-52页 |
| 3.5 本章总结 | 第52-53页 |
| 4 苯并噻唑-咔唑衍生物的合成、薄膜制备及光学性质研究 | 第53-63页 |
| 4.1 苯并噻唑-咔唑衍生物的材料概况 | 第53-54页 |
| 4.2 苯并噻唑-咔唑衍生物的光学薄膜制备 | 第54-57页 |
| 4.2.1 苯并噻唑-咔唑有机低分子化合物的合成 | 第54-56页 |
| 4.2.2 苯并噻唑-咔唑有机聚合物的光学薄膜制备 | 第56-57页 |
| 4.3 苯并噻唑-咔唑有机聚合物光学薄膜线性研究 | 第57-58页 |
| 4.4 苯并噻唑-咔唑有机聚合物光学薄膜三阶非线性研究 | 第58-61页 |
| 4.5 本章总结 | 第61-63页 |
| 5 总结与展望 | 第63-66页 |
| 5.1 本文主要内容 | 第63页 |
| 5.2 本论文主要创新点 | 第63-64页 |
| 5.3 有机聚合物非线性光学材料的未来应用前景 | 第64页 |
| 5.4 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 索引 | 第69-71页 |
| 作者简历 | 第71-73页 |
| 学位论文数据集 | 第73页 |
