| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 硫酸钠再生的背景和意义 | 第9-12页 |
| 1.1.1 硫酸钠电解液的污染和危害 | 第9-10页 |
| 1.1.2 国家相关标准 | 第10-11页 |
| 1.1.3 课题研究的意义 | 第11-12页 |
| 1.2 电解废液处理方法的研究现状 | 第12-19页 |
| 1.2.1 工艺发展现状 | 第12-17页 |
| 1.2.2 国内外研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第19-21页 |
| 第2章 连续冷轧酸洗生产工艺过程 | 第21-33页 |
| 2.1 冷轧酸洗基本工艺流程 | 第21-28页 |
| 2.2 硫酸钠再生系统构成 | 第28-31页 |
| 2.2.1 硫酸钠再生系统构成 | 第29-30页 |
| 2.2.2 氧化还原反应机理 | 第30-31页 |
| 2.3 硫酸钠再生控制难点 | 第31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 硫酸钠再生控制系统 | 第33-41页 |
| 3.1 硫酸钠再生控制参数的选择 | 第33-34页 |
| 3.2 硫酸钠再生的控制系统 | 第34-38页 |
| 3.2.1 ORP与PH的关系分析 | 第34-35页 |
| 3.2.2 硫酸钠再生系统的常规PID控制 | 第35-36页 |
| 3.2.3 比值系数的计算 | 第36-37页 |
| 3.2.4 硫酸钠再生系统控制方式的局限性 | 第37-38页 |
| 3.3 冷轧酸洗线的控制方式 | 第38-40页 |
| 3.3.1 冷轧酸洗线的控制系统架构 | 第38-39页 |
| 3.3.2 电解液再生控制系统 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 硫酸钠再生系统的控制器设计 | 第41-59页 |
| 4.1 硫酸钠再生系统模型的建立 | 第41-43页 |
| 4.2 硫酸钠再生PH值回路的模糊PID控制器设计 | 第43-52页 |
| 4.2.1 PH值控制回路的控制器结构设计 | 第43-44页 |
| 4.2.2 PH值控制回路的控制器参数设计 | 第44-47页 |
| 4.2.3 PH值回路的控制器模糊规则 | 第47-51页 |
| 4.2.4 PH值模糊PID控制器的解模糊 | 第51-52页 |
| 4.3 硫酸钠再生ORP回路的内模控制器设计 | 第52-58页 |
| 4.3.1 ORP回路的内模控制结构 | 第53-54页 |
| 4.3.2 ORP回路的内模控制性质 | 第54-55页 |
| 4.3.3 ORP回路的内模控制器实现问题 | 第55-56页 |
| 4.3.4 ORP控制回路内模控制器的设计 | 第56-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 系统仿真及结果分析 | 第59-67页 |
| 5.1 硫酸钠系统仿真模型搭建 | 第59-62页 |
| 5.2 仿真结果分析 | 第62-65页 |
| 5.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 第6章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |