曲面网栅写入技术研究
| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 光学窗电磁屏蔽技术 | 第14-18页 |
| 1.1.1 频率选择表面技术 | 第14-15页 |
| 1.1.2 电控灵敏材料技术 | 第15页 |
| 1.1.3 透明导电膜技术 | 第15页 |
| 1.1.4 基于金属网栅的滤波技术 | 第15-18页 |
| 1.2 微细加工技术 | 第18-23页 |
| 1.2.1 掩模光刻技术 | 第18-19页 |
| 1.2.2 无掩模光刻技术 | 第19-23页 |
| 1.2.2.1 电子束直写 | 第19-20页 |
| 1.2.2.2 激光直写 | 第20-22页 |
| 1.2.2.3 近场直写 | 第22-23页 |
| 1.3 曲面激光直写 | 第23-27页 |
| 第二章 曲面光刻理论 | 第27-35页 |
| 2.1 凸曲面甩胶 | 第27-30页 |
| 2.2 激光直写曝光模型 | 第30-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 金属网栅仿真及优化 | 第35-44页 |
| 3.1 FDTD算法理论 | 第35-38页 |
| 3.2 对电磁波各偏振态的屏蔽效率 | 第38-39页 |
| 3.3 网栅图形对电磁波屏蔽效率的影响 | 第39-42页 |
| 3.3.1 等边长图形对电磁波屏蔽效率的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.2 等面积图形对电磁波屏蔽效率的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.3 PEC理想导体对仿真精度的影响 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 曲面光刻平台 | 第44-66页 |
| 4.1 曲面光刻平台结构及工作原理 | 第44-46页 |
| 4.2 光刻图形建模 | 第46-50页 |
| 4.2.1 环形 | 第47-48页 |
| 4.2.2 网栅形 | 第48-50页 |
| 4.3 倾斜台运动分析 | 第50-52页 |
| 4.4 曝光量修正的初步算法 | 第52-54页 |
| 4.5 下位机控制系统 | 第54-57页 |
| 4.6 PC端GU工程序 | 第57-58页 |
| 4.7 曲面光刻初步实验 | 第58-65页 |
| 4.7.1 曲面光栅形状 | 第58-60页 |
| 4.7.2 曲面网栅形状 | 第60-65页 |
| 4.7.3 曲面圆环形 | 第65页 |
| 4.8 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结及展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第72-73页 |
| 作者筒介 | 第73页 |
