太阳电池窗口层碳化硅薄膜掺杂研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| §1.1 太阳电池的发展 | 第8-14页 |
| ·光伏产业发展现状 | 第8-10页 |
| ·太阳电池的种类 | 第10-14页 |
| §1.2 非晶硅薄膜太阳电池的现状 | 第14-16页 |
| §1.3 本论文的主要研究内容及组织 | 第16-19页 |
| ·本论文的研究内容 | 第16-17页 |
| ·本论文的组织 | 第17页 |
| ·创新点与不足 | 第17-19页 |
| 第二章 窗口层非晶硅薄膜材料的特性及制备 | 第19-38页 |
| §2.1 非晶硅半导体薄膜材料的特性 | 第19-25页 |
| ·非晶态薄膜材料的结构特性 | 第19-21页 |
| ·非晶态薄膜材料的光学特性 | 第21-22页 |
| ·非晶态薄膜材料的电学特性 | 第22-25页 |
| §2.2 窗口层薄膜制备材料 | 第25-26页 |
| ·反应气体 | 第25页 |
| ·衬底材料的选用 | 第25-26页 |
| §2.3 薄膜生长设备及工艺 | 第26-31页 |
| ·薄膜生长设备简介 | 第26-29页 |
| ·非晶碳化硅薄膜的制备流程 | 第29-31页 |
| §2.4 薄膜材料的常用测试方法 | 第31-38页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第31-32页 |
| ·薄膜表面结构表征 | 第32-34页 |
| ·薄膜成分表征 | 第34-36页 |
| ·薄膜电导率测量 | 第36-38页 |
| 第三章 窗口层非晶碳化硅薄膜环境工艺研究与分析 | 第38-45页 |
| §3.1 射频功率对非晶碳化硅薄膜的影响 | 第39-41页 |
| §3.2 衬底温度对非晶碳化硅薄膜的影响 | 第41-43页 |
| §3.3 生长时间对非晶碳化硅薄膜的影响 | 第43-45页 |
| 第四章 窗口层材料掺杂研究与分析 | 第45-62页 |
| §4.1 氢流量对非晶碳化硅薄膜影响的研究 | 第45-52页 |
| ·氢流量对非晶碳化硅薄膜结构特性的影响 | 第46-49页 |
| ·氢流量对非晶碳化硅薄膜光电特性的影响 | 第49-52页 |
| §4.2 碳含量对非晶碳化硅材料的影响 | 第52-56页 |
| ·沉积速率分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜组分分析 | 第53-54页 |
| ·光学带隙分析 | 第54-56页 |
| §4.3 硼含量对非晶碳化硅材料的影响 | 第56-62页 |
| ·硼含量对电导率的影响 | 第56-58页 |
| ·硼含量对沉积速率的影响 | 第58-59页 |
| ·硼含量对薄膜组分的影响 | 第59-60页 |
| ·硼含量对光学带隙的影响 | 第60-62页 |
| 第五章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 硕士期间发表论文 | 第70-71页 |
| 硕士期间参与的研究课题 | 第71页 |
