| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-11页 |
| 1.1 光学薄膜应力研究的背景和意义 | 第8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-9页 |
| 1.3 论文主要工作 | 第9-11页 |
| 第二章 光学薄膜应力的理论研究 | 第11-21页 |
| 2.1 薄膜应力的分类 | 第11页 |
| 2.2 薄膜应力的产生机制 | 第11-18页 |
| 2.2.1 热应力 | 第11-14页 |
| 2.2.2 本征应力 | 第14-18页 |
| 2.3 薄膜应力测量方法 | 第18-21页 |
| 第三章 薄膜应力的分布规律以及其对元件面形的影响研究 | 第21-43页 |
| 3.1 有限元方法 | 第21-22页 |
| 3.1.1 有限元法简介 | 第21页 |
| 3.1.2 有限元分析工具软件ANSYS | 第21-22页 |
| 3.2 膜系的设计 | 第22-24页 |
| 3.2.1 多层介质高反射膜设计理论 | 第22-23页 |
| 3.2.2 高反射膜材料的选择 | 第23页 |
| 3.2.3 高反射膜系的设计结果 | 第23-24页 |
| 3.3 热应力的分布规律以及其对元件面形的影响 | 第24-34页 |
| 3.3.1 有限元模型的建立 | 第24-26页 |
| 3.3.2 网格划分与载荷施加 | 第26-27页 |
| 3.3.3 有限元分析的结果 | 第27-31页 |
| 3.3.4 有限元模型与理论模型分析结果的比较 | 第31-32页 |
| 3.3.5 不同膜层数对热应力的影响 | 第32-34页 |
| 3.4 本征应力与残余应力的分布规律以及其对元件面形的影响 | 第34-43页 |
| 3.4.1 等效参考温度(ERT)模型 | 第34-37页 |
| 3.4.2 在ANSYS中使用ERT模型模拟光学薄膜的残余应力 | 第37-38页 |
| 3.4.3 有限元分析的结果 | 第38-42页 |
| 3.4.4 不同膜层数对多层薄膜残余应力的影响 | 第42-43页 |
| 第四章 薄膜应力对薄膜屈曲的影响研究 | 第43-49页 |
| 4.1 薄膜屈曲的概念 | 第43页 |
| 4.2 屈曲模型的力学分析 | 第43-45页 |
| 4.2.1 直线型屈曲 | 第43-44页 |
| 4.2.2 圆泡型屈曲 | 第44页 |
| 4.2.3 多层膜的直线型屈曲 | 第44-45页 |
| 4.3 光学薄膜屈曲的理论计算 | 第45-46页 |
| 4.3.1 单层薄膜屈曲模型的应用 | 第45-46页 |
| 4.3.2 多层膜屈曲模型的应用 | 第46页 |
| 4.4 屈曲模型的有限元模拟 | 第46-49页 |
| 第五章 薄膜应力控制技术研究 | 第49-60页 |
| 5.1 薄膜应力的控制技术 | 第49-54页 |
| 5.1.1 选择沉积技术 | 第49页 |
| 5.1.2 控制沉积工艺参数 | 第49-50页 |
| 5.1.3 优化膜系组合 | 第50-51页 |
| 5.1.4 添加应力补偿层 | 第51页 |
| 5.1.5 热退火处理 | 第51-52页 |
| 5.1.6 控制水致应力 | 第52页 |
| 5.1.7 控制基底应力 | 第52-53页 |
| 5.1.8 应变补偿法 | 第53-54页 |
| 5.2 薄膜应力控制的实验探究 | 第54-60页 |
| 5.2.1 实验介绍 | 第54-55页 |
| 5.2.2 实验过程 | 第55-56页 |
| 5.2.3 实验结果与讨论 | 第56-60页 |
| 第六章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第60页 |
| 6.2 展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |
