| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第22-40页 |
| 1.1 引言 | 第22页 |
| 1.2 油品脱硫方法 | 第22-28页 |
| 1.2.1 催化加氢脱硫(HDS) | 第22-23页 |
| 1.2.2 萃取脱硫(EDS) | 第23-27页 |
| 1.2.2.1 传统溶剂萃取脱硫 | 第23页 |
| 1.2.2.2 离子液体萃取脱硫 | 第23-26页 |
| 1.2.2.3 低共融溶剂萃取脱硫 | 第26-27页 |
| 1.2.3 氧化脱硫(ODS) | 第27-28页 |
| 1.2.4 吸附脱硫(ADS) | 第28页 |
| 1.3 离子聚合物合成 | 第28-34页 |
| 1.3.1 自由基聚合 | 第30-31页 |
| 1.3.2 可控/活性自由基聚合 | 第31-32页 |
| 1.3.3 聚合物离子化修饰 | 第32-34页 |
| 1.3.4 离子化与聚合同步 | 第34页 |
| 1.4 离子化聚合物结构调控方法 | 第34-35页 |
| 1.4.1 模板法 | 第34-35页 |
| 1.4.2 交联法 | 第35页 |
| 1.4.3 阴离子交换 | 第35页 |
| 1.5 离子聚合物的应用 | 第35-39页 |
| 1.5.1 吸附剂 | 第35-37页 |
| 1.5.2 催化剂 | 第37-38页 |
| 1.5.3 碳材料 | 第38页 |
| 1.5.4 离子导体 | 第38-39页 |
| 1.6 本文研究内容 | 第39-40页 |
| 第二章 实验物品及硫含量分析方法 | 第40-48页 |
| 2.1 主要实验试剂及仪器 | 第40-42页 |
| 2.2 硫含量分析测定方法 | 第42-43页 |
| 2.2.1 实验用硫种类 | 第42页 |
| 2.2.2 硫含量分析原理 | 第42-43页 |
| 2.2.3 硫浓度计算方法 | 第43页 |
| 2.3 标准曲线绘制 | 第43-46页 |
| 2.3.1 DBT模型油标线 | 第44页 |
| 2.3.2 BT模型油标线 | 第44-45页 |
| 2.3.3 T模型油标线 | 第45-46页 |
| 2.3.4 4,6-DMDBT模型油标线 | 第46页 |
| 2.4 吸附计算及吸附模型 | 第46-48页 |
| 第三章 VIM-VBC二元离子共聚物制备及其吸附脱硫性能 | 第48-64页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 合成原理 | 第48页 |
| 3.3 合成过程 | 第48-51页 |
| 3.3.1 合成P(VIM-VBC)-1 | 第48-49页 |
| 3.3.2 合成P(VBC-VIM)-2 | 第49页 |
| 3.3.3 合成P(VIM-VBC)-3 | 第49-51页 |
| 3.4 单体比例及预聚合时间对P(VIM-VBC)吸附脱硫性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.1 单体比例对P(VIM-VBC)-1吸附脱硫性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.2 VIM预聚合对P(VIM-VBC)-2吸附脱硫性能的影响 | 第52页 |
| 3.5 P(VIM-VBC)的表征 | 第52-59页 |
| 3.5.1 P(VIM-VBC)电镜表征 | 第52-54页 |
| 3.5.2 P(VIM-VBC)元素组成 | 第54页 |
| 3.5.3 P(VIM-VBC)碳核磁分析 | 第54-55页 |
| 3.5.4 P(VIM-VBC)和PVIM红外光谱 | 第55-56页 |
| 3.5.5 P(VIM-VBC)热稳定分析 | 第56-57页 |
| 3.5.6 P(VIM-VBC)氮吸附曲线 | 第57-59页 |
| 3.6 P(VIM-VBC)的吸附脱硫性能 | 第59-63页 |
| 3.6.1 P(VIM-VBC)吸附等温线 | 第59-60页 |
| 3.6.2 P(VIM-VBC)-1对不同噻吩硫的吸附等温线 | 第60-61页 |
| 3.6.3 竞争吸附 | 第61-62页 |
| 3.6.4 循环再生 | 第62-63页 |
| 3.7 本章小结 | 第63-64页 |
| 第四章 VIM-VBC-DVB三元离子共聚物制备及其ADS性能 | 第64-76页 |
| 4.1 引言 | 第64页 |
| 4.2 离子聚合物P(VIM-VBC-DVB)的合成 | 第64-65页 |
| 4.2.1 P(VIM-VBC-DVB)的合成及其ADS性能 | 第64-65页 |
| 4.2.2 P(VIM-VBC-DVB)聚合物的交联改性 | 第65页 |
| 4.3 离子聚合物P(VIM-VBC-DVB)及其交联改性产物的表征 | 第65-69页 |
| 4.3.1 P(VIM-VBC-DVB)及HCP(VIM-VBC-DVB)的电镜表征 | 第66页 |
| 4.3.2 P(VIM-VBC-DVB)及HCP(VIM-VBC-DVB)元素分析 | 第66-67页 |
| 4.3.3 P(VIM-VBC-DVB)红外图谱 | 第67页 |
| 4.3.4 P(VIM-VBC-DVB)热稳定分析 | 第67-68页 |
| 4.3.5 P(VIM-VBC-DVB)的BET 比表面积分析 | 第68-69页 |
| 4.4 P(VIM-VBC-DVB)及HCP(VIM-VBC-DVB)的ADS性能 | 第69-74页 |
| 4.4.1 P(VIM-VBC-DVB)与HCP(VIM-VBC-DVB)吸附能力的比较 | 第69-70页 |
| 4.4.2 P(VIM-VBC-DVB)对不同噻吩硫的吸附性能及选择性 | 第70-72页 |
| 4.4.3 温度对P(VIM-VBC-DVB)吸附脱硫性能的影响 | 第72-73页 |
| 4.4.4 P(VIM-VBC-DVB)再生性能 | 第73-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 离子聚合物的结构调控与吸附脱硫性能 | 第76-92页 |
| 5.1 引言 | 第76页 |
| 5.2 P(VIM-VBC-DVB)二次成孔对其孔结构的调控作用 | 第76-80页 |
| 5.2.1 合成原理 | 第76页 |
| 5.2.2 HCP(VIM-VBC-DVB)合成过程 | 第76-77页 |
| 5.2.3 P(VIM-VBC-DVB)-1及HCP(VIM-VBC-DVB)-1电镜图 | 第77-78页 |
| 5.2.4 P(VIM-VBC-DVB)及HCP(VIM-VBC-DVB)的硫吸附能力 | 第78页 |
| 5.2.5 HCP(VIM-VBC-DVB)-1对DBT吸附等温线 | 第78-79页 |
| 5.2.6 HCP(VIM-VBC-DVB)-1的吸附选择性 | 第79-80页 |
| 5.3 DCX或BCMBP的缩聚物及其离子化产物的ADS性能 | 第80-86页 |
| 5.3.1 合成原理 | 第80-81页 |
| 5.3.2 HCP(DCX)和HCP(BCMBP)聚合微球的合成 | 第81页 |
| 5.3.3 HCP(DCX)-PVIM和HCP(BCMBP)-PVIM合成 | 第81页 |
| 5.3.4 HCP(DCX)和HCP(BCMBP)及其PVIM离子化产物的元素分析 | 第81-82页 |
| 5.3.5 HCP(DCX)和HCP(BCMBP)及其PVIM离子化产物的电镜分析 | 第82-83页 |
| 5.3.6 HCP(DCX)和HCP(BCMBP)及其PVIM离子化产物的吸附性能 | 第83-84页 |
| 5.3.7 HCP(DCX)-PVIM和HCP(BCMBP)-PVIM的吸附等温线 | 第84-86页 |
| 5.4 咪唑-Lewis酸络合物的合成及其ADS性能 | 第86-89页 |
| 5.4.1 咪唑基络合物的合成原理 | 第86页 |
| 5.4.2 PVIM/PVP-FeCl_3络合物的合成及其ADS性能 | 第86页 |
| 5.4.3 多咪唑化合物-Lewis酸络合物的合成及其ADS性能 | 第86-87页 |
| 5.4.4 咪唑基络合物的合成及其吸附脱硫性能 | 第87页 |
| 5.4.5 金属离子负载P(VIM-VBC)-2及其ADS性能 | 第87-89页 |
| 5.5 咪唑阴离子对离子聚合物ADS性能的影响 | 第89-90页 |
| 5.6 本章小结 | 第90-92页 |
| 第六章 结论 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第102-104页 |
| 导师及作者介绍 | 第104-106页 |
| 附件 | 第106-107页 |
