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以介孔材料为基底的表面离子印迹聚合物的制备及表征

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第11-20页
    1.1 离子印迹技术发展历程第11页
    1.2 金属离子印迹聚合物制备中原料的选择第11-13页
        1.2.1 模板离子第11-12页
        1.2.2 功能单体第12页
        1.2.3 交联剂和引发剂第12-13页
        1.2.4 溶剂第13页
    1.3 离子印迹聚合物的制备方法第13-14页
        1.3.1 本体聚合第13页
        1.3.2 悬浮聚合和乳液聚合第13-14页
        1.3.3 沉淀聚合第14页
    1.4 表面离子印迹技术第14-18页
        1.4.1 以硅胶为基底的印迹聚合物第14-16页
        1.4.2 以介孔材料为基底的印迹聚合物第16页
        1.4.3 以Fe_3O_4为载体的磁性印迹聚合物第16-18页
    1.5 论文选题依据及主要研究内容第18-20页
第二章 钴离子表面印迹聚合物的制备及表征第20-33页
    2.1 实验试剂与仪器第20-21页
        2.1.1 实验试剂第20-21页
        2.1.2 实验仪器第21页
    2.2 钴离子表面印迹聚合物的制备第21-22页
    2.3 静态吸附试验第22-23页
        2.3.1 吸附平衡时间、pH的确定第22页
        2.3.2 平衡吸附量的确定第22页
        2.3.3 吸附选择性研究第22-23页
        2.3.4 循环使用性能第23页
    2.4 表征方法第23页
    2.5 结果与讨论第23-32页
        2.5.1 合成策略第23-24页
        2.5.2 Co(Ⅱ)-ⅡP的表征第24-27页
            2.5.2.1 红外谱图(FT-IR)分析第24-25页
            2.5.2.2 能量色散X射线谱图(EDS)分析第25-26页
            2.5.2.3 热重分析(TG)第26页
            2.5.2.4 扫描电镜(SEM)第26-27页
        2.5.3 吸附性能第27-32页
            2.5.3.1 pH影响第27页
            2.5.3.2 吸附时间的影响第27-29页
            2.5.3.3 初始浓度影响第29-30页
            2.5.3.4 选择性能研究第30-31页
            2.5.3.5 循环使用性能第31-32页
    2.6 本章小结第32-33页
第三章 铜离子表面印迹聚合物的制备及表征第33-46页
    3.1 实验试剂及仪器第33-35页
        3.1.1 实验试剂第33-34页
        3.1.2 实验仪器第34-35页
    3.2 铜离子表面印迹聚合物的制备第35页
    3.3 静态吸附试验第35-36页
        3.3.1 吸附平衡时间、pH的确定第35页
        3.3.2 平衡吸附量的确定第35页
        3.3.3 吸附选择性研究第35-36页
        3.3.4 循环使用性能第36页
    3.4 Cu(Ⅱ)-ⅡP的表征方法第36页
    3.5 结果与讨论第36-45页
        3.5.1 合成策略第36-37页
        3.5.2 Cu(Ⅱ)-ⅡP的表征第37-41页
            3.5.2.1 FT-IR分析第37-38页
            3.5.2.2 EDS分析第38页
            3.5.2.3 XRD分析第38-39页
            3.5.2.4 形貌分析第39页
            3.5.2.5 BET分析第39-40页
            3.5.2.6 TG分析第40-41页
        3.5.3 吸附性能第41-45页
            3.5.3.1 pH影响第41-42页
            3.5.3.2 吸附时间的影响第42页
            3.5.3.3 初始浓度影响第42-43页
            3.5.3.4 选择性能研究第43-44页
            3.5.3.5 循环使用性能第44-45页
    3.6 本章小结第45-46页
第四章 铯离子表面印迹聚合物的制备及表征第46-60页
    4.1 实验试剂及仪器第46-48页
        4.1.1 实验试剂第46-47页
        4.1.2 实验仪器第47-48页
    4.2 铯离子表面印迹聚合物的制备第48页
    4.3 静态吸附试验第48-49页
        4.3.1 吸附平衡时间、pH的确定第48页
        4.3.2 平衡吸附量的确定第48页
        4.3.3 吸附选择性研究第48-49页
        4.3.4 循环使用性能第49页
    4.4 Cs(I)-ⅡP的表征方法第49页
    4.5 结果与讨论第49-59页
        4.5.1 合成策略第49-50页
        4.5.2 Cs(I)-ⅡP的表征第50-55页
            4.5.2.1 FT-IR分析第50-51页
            4.5.2.2 EDS分析第51-52页
            4.5.2.3 XRD分析第52页
            4.5.2.4 形貌分析第52-53页
            4.5.2.5 BET分析第53-54页
            4.5.2.6 TG分析第54-55页
        4.5.3 吸附性能第55-59页
            4.5.3.1 pH影响第55-56页
            4.5.3.2 吸附时间的影响第56页
            4.5.3.3 初始浓度的影响第56-57页
            4.5.3.4 吸附选择性能研究第57-58页
            4.5.3.5 循环利用性能第58-59页
    4.6 本章小结第59-60页
第五章 结论第60-61页
参考文献第61-67页
致谢第67-68页
作者简介第68页

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