摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第11-12页 |
1.2 镁合金的腐蚀与防护 | 第12-15页 |
1.2.1 镁合金的腐蚀 | 第12-13页 |
1.2.2 镁合金的防护 | 第13-15页 |
1.3 金属防腐领域中的聚吡咯膜 | 第15-20页 |
1.3.1 聚吡咯概述 | 第15-17页 |
1.3.2 聚吡咯膜对金属的防腐机制 | 第17-18页 |
1.3.3 聚吡咯薄膜的制备 | 第18-20页 |
1.3.4 聚吡咯薄膜的研究现状 | 第20页 |
1.4 金属防腐中的硅烷处理技术 | 第20-24页 |
1.4.1 硅烷膜防腐技术概述 | 第20-23页 |
1.4.2 金属表面硅烷膜的制备 | 第23-24页 |
1.5 论文的主要研究内容 | 第24-27页 |
第2章 实验部分 | 第27-33页 |
2.1 实验材料与仪器 | 第27-28页 |
2.1.1 实验材料 | 第27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27-28页 |
2.2 实验内容 | 第28-31页 |
2.2.1 本征聚吡咯膜层的制备 | 第28-29页 |
2.2.2 聚吡咯/硅烷复合薄膜的制备 | 第29-30页 |
2.2.3 镁合金表面环氧复合涂层的制备 | 第30-31页 |
2.3 测试与表征 | 第31-33页 |
2.3.1 试样的表面形貌测试 | 第31页 |
2.3.2 试样表面薄膜的成分分析 | 第31页 |
2.3.3 环氧复合涂层试样的结合力测试 | 第31-32页 |
2.3.4 试样的耐腐蚀性能测试 | 第32-33页 |
第3章 镁合金表面聚吡咯薄膜的制备 | 第33-47页 |
3.1 吡咯单体浓度对聚吡咯膜性能的影响 | 第33-36页 |
3.1.1 吡咯单体浓度对聚吡咯膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
3.1.2 吡咯单体浓度对聚吡咯膜腐蚀性能的影响 | 第34-36页 |
3.2 循环周期对聚吡咯薄膜性能的影响 | 第36-39页 |
3.2.1 不同循环周期对聚吡咯膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
3.2.2 不同循环周期对聚吡咯膜腐蚀性能的影响 | 第37-39页 |
3.3 扫描速度对聚吡咯薄膜性能的影响 | 第39-41页 |
3.3.1 扫描速度对聚吡咯膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
3.3.2 扫描速度对聚吡咯膜腐蚀性能的影响 | 第40-41页 |
3.4 扫描电压范围对聚吡咯薄膜性能的影响 | 第41-45页 |
3.4.1 不同扫描电压镁合金表面聚吡咯膜的制备 | 第41-42页 |
3.4.2 扫描电压范围对聚吡咯膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
3.4.3 扫描电压范围对聚吡咯膜腐蚀性能的影响 | 第43-45页 |
3.5 镁合金表面本征态聚吡咯薄膜红外光谱图分析 | 第45-46页 |
3.6 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 硅烷水解工艺对镁合金表面聚吡咯/硅烷复合膜性能的研究 | 第47-59页 |
4.1 聚吡咯/硅烷复合薄膜红外光谱图分析 | 第47-48页 |
4.2 镁合金表面聚吡咯/硅烷复合膜的形成机理 | 第48-50页 |
4.3 硅烷偶联剂含量对复合膜层性能的影响 | 第50-54页 |
4.3.1 聚吡咯/硅烷复合膜的制备 | 第50-51页 |
4.3.2 聚吡咯/硅烷复合膜表面形貌的分析 | 第51-52页 |
4.3.3 聚吡咯/硅烷复合膜耐蚀性能的分析 | 第52-54页 |
4.4 硅烷偶联剂水解时间对复合膜层性能的影响 | 第54-57页 |
4.4.1 聚吡咯/硅烷膜表面形貌的分析 | 第54-55页 |
4.4.2 聚吡咯/硅烷膜耐蚀性能的分析 | 第55-57页 |
4.5 本章小结 | 第57-59页 |
第5章 环氧复合涂层对镁合金防护机理的电化学研究 | 第59-71页 |
5.1 环氧复合涂层的耐腐蚀性能分析 | 第59-68页 |
5.1.1 动电位极化曲线分析 | 第59-62页 |
5.1.2 电化学交流阻抗谱分析 | 第62-68页 |
5.2 环氧复合涂层的结合力测试 | 第68-69页 |
5.3 本章小结 | 第69-71页 |
结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-81页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第81-83页 |
致谢 | 第83页 |