微波逆散射成像中的若干问题研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第16-19页 |
| 2 电磁逆散射问题基本理论 | 第19-31页 |
| 2.1 散射问题基本理论 | 第19-24页 |
| 2.1.1 散射问题的基本模型 | 第19-22页 |
| 2.1.2 积分方程的离散化求解 | 第22-24页 |
| 2.2 逆问题的求解方法 | 第24-28页 |
| 2.2.1 对比源反演方法 | 第24-25页 |
| 2.2.2 子空间优化算法 | 第25-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-31页 |
| 3 基于SOM算法的斜入射逆散射成像 | 第31-65页 |
| 3.1 斜入射正散射问题的模型 | 第31-40页 |
| 3.2 斜入射逆散射成像算法 | 第40-42页 |
| 3.3 斜入射逆散射成像的数值仿真 | 第42-55页 |
| 3.3.1 斜入射角度对成像结果的影响 | 第42-50页 |
| 3.3.2 极化对成像结果的影响 | 第50-55页 |
| 3.4 斜入射逆散射成像的实验研究 | 第55-63页 |
| 3.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 4 非均匀背景下的逆散射成像 | 第65-97页 |
| 4.1 非均匀背景下的逆散射成像算法 | 第65-70页 |
| 4.1.1 双重子空间优化算法 | 第65-67页 |
| 4.1.2 非均匀背景下的成像算法 | 第67-70页 |
| 4.2 一种计算非均匀背景格林函数的方法 | 第70-73页 |
| 4.3 非均匀背景下逆散射成像的实验研究 | 第73-96页 |
| 4.3.1 基于散射场的校准方法 | 第73-80页 |
| 4.3.2 实验结果 | 第80-96页 |
| 4.4 本章小结 | 第96-97页 |
| 5 导体平面附近的逆散射成像 | 第97-113页 |
| 5.1 导体平面附近散射问题模型 | 第97-100页 |
| 5.2 多重信号分类算法 | 第100-101页 |
| 5.3 数值仿真 | 第101-111页 |
| 5.4 本章小结 | 第111-113页 |
| 6 结束语 | 第113-115页 |
| 6.1 全文总结 | 第113-114页 |
| 6.2 展望 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-125页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第125页 |
