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电流体动力喷印嘴阵列的设计与实现

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-24页
    1.1 课题来源第9页
    1.2 课题的提出第9-12页
    1.3 相关文献综述第12-22页
    1.4 本文的主要工作第22-24页
2 电流体锥射流喷射过程数值仿真第24-36页
    2.1 引言第24页
    2.2 实验平台与工艺过程第24-26页
    2.3 电流体喷印锥射流喷射过程第26-27页
    2.4 锥射流数值仿真模型的建立第27-32页
    2.5 锥射流数值仿真结果及分析第32-35页
    2.6 本章小结第35-36页
3 平面式硅基喷嘴阵列的试制及喷印性能第36-55页
    3.1 引言第36页
    3.2 平面式硅基喷嘴的设计第36-38页
    3.3 平面式硅基喷嘴的试制第38-45页
    3.4 平面式硅基喷嘴的喷印性能第45-54页
    3.5 本章小结第54-55页
4 突出式硅基喷嘴阵列的制作及喷印性能第55-75页
    4.1 引言第55页
    4.2 突出式硅基喷嘴的设计第55-59页
    4.3 突出式硅基喷嘴的制作第59-69页
    4.4 突出式硅基喷嘴的喷印性能第69-73页
    4.5 本章小结第73-75页
5 喷嘴阵列独立可控及自动化喷印方法与验证第75-91页
    5.1 引言第75页
    5.2 多级电压法的提出第75-77页
    5.3 多级电压法的实验验证及分析第77-85页
    5.4 喷嘴阵列自动化喷印方法与验证第85-90页
    5.5 本章小结第90-91页
6 硅基喷嘴在量子点材料喷印中的应用第91-101页
    6.1 引言第91-92页
    6.2 量子点简介第92-93页
    6.3 胶体量子点体系的选取第93-96页
    6.4 突出式硅基喷嘴量子点正壬烷喷印第96-99页
    6.5 本章小结第99-101页
7 总结与展望第101-104页
    7.1 全文总结第101-102页
    7.2 研究展望第102-104页
致谢第104-105页
参考文献第105-115页
附录 作者攻读博士学位期间取得的成果第115-116页

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