| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| ·卟啉、酞菁简介 | 第11页 |
| ·有机场效应晶体管（organic field-effect transistor）概述 | 第11-13页 |
| ·酞菁类配合物的有机半导体材料的研究进展 | 第13页 |
| ·稀土三层酞菁/卟啉配合物及其聚集体 | 第13-15页 |
| 第二章 具有高性能的双极性(TFPP)Eu_2[Pc(OPh)_8]_2/CuPc异质结有机场效应晶体管器件 | 第15-33页 |
| ·前言 | 第15-17页 |
| ·仪器与试剂 | 第17-18页 |
| ·仪器 | 第17页 |
| ·试剂 | 第17-18页 |
| ·实验部分 | 第18-22页 |
| ·化合物的合成 | 第18-20页 |
| ·实验步骤 | 第20-22页 |
| ·结果与讨论 | 第22-32页 |
| ·差分脉冲伏安法（DPV）分析 | 第22-23页 |
| ·OFET器件测试 | 第23-27页 |
| ·固液紫外对比表征 | 第27-28页 |
| ·X射线衍射表征 | 第28-30页 |
| ·三种分子膜的原子力显微镜（AFM）测试 | 第30-31页 |
| ·异质结器件内部机理 | 第31-32页 |
| ·结论 | 第32-33页 |
| 第三章 酞菁卟啉混杂三层金属铕配合物的设计合成以及聚集形式：取代基调节分子间相互作用 | 第33-51页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验相关 | 第34-41页 |
| ·合成 | 第35-40页 |
| ·简单的溶剂化QLS方法制备聚集体 的方法 | 第40-41页 |
| ·谱图表征 | 第41-44页 |
| ·紫外可见光吸收光谱 | 第41-42页 |
| ·质谱 | 第42页 |
| ·核磁分析 | 第42-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-48页 |
| ·化合物在溶液中和QLS聚集体中紫外的对比研究 | 第44-46页 |
| ·两种聚集体的X射线衍射光谱（XRD） | 第46-47页 |
| ·两种配合物的QLS自组装膜的原子力显微镜（AFM） | 第47-48页 |
| ·两种化合物聚集体的I-V测试 | 第48页 |
| ·结论 | 第48-51页 |
| 第四章 结论与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 附录 | 第69页 |
