| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 本课题的研究背景及意义 | 第12-28页 |
| ·重金属水污染及其处理技术 | 第12-14页 |
| ·重金属废水的危害 | 第12页 |
| ·重金属废水的处理技术 | 第12-14页 |
| ·黄酮类化合物概述 | 第14-16页 |
| ·黄酮类化合物的结构与性质 | 第14-16页 |
| ·黄酮类化合物的提取方法 | 第16页 |
| ·分子印迹技术 | 第16-21页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第16-17页 |
| ·表面分子印迹技术 | 第17-19页 |
| ·离子印迹技术在水处理方面的应用 | 第19-20页 |
| ·槲皮素分子印迹聚合物的研究现状 | 第20-21页 |
| ·羟肟酸概述 | 第21-26页 |
| ·羟肟酸的性质 | 第21-22页 |
| ·羟肟酸的应用 | 第22-26页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第26-28页 |
| 2 水杨羟肟酸功能化聚合物/硅胶复合螯合吸附材料的制备 | 第28-38页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·试剂与仪器 | 第28页 |
| ·水杨羟肟酸型复合螯合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2的制备 | 第28-30页 |
| ·复合螯合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2的表征 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-36页 |
| ·复合螯合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2的制备及表征 | 第31-34页 |
| ·影响 PHEMA/SiO_2键合 SHA 反应的主要因素 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 3 复合吸附材料对铅离子的吸附性能研究 | 第38-50页 |
| ·实验部分 | 第38-40页 |
| ·试剂与仪器 | 第38-39页 |
| ·SHA-PHEMA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的吸附实验 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-49页 |
| ·复合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2的红外光谱图 | 第40-41页 |
| ·吸附动力学曲线 | 第41-43页 |
| ·SHA-PHEMA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的吸附等温实验 | 第43-44页 |
| ·介质的 pH 值对 SHA-PHEMA/SiO_2吸附性能的影响 | 第44-45页 |
| ·复合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的吸附热力学 | 第45-48页 |
| ·复合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2的重复使用性能 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 铅离子表面印迹材料的制备及其识别特性研究 | 第50-68页 |
| ·实验部分 | 第50-54页 |
| ·试剂与仪器 | 第50页 |
| ·铅离子表面印迹材料的制备 | 第50-51页 |
| ·静态法考察 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的结合性能 | 第51-52页 |
| ·考察 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的选择性 | 第52-53页 |
| ·动态法考察 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的结合性能 | 第53页 |
| ·动态法考察 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的解吸性能 | 第53-54页 |
| ·考察 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的重复使用性能 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-66页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的制备 | 第54-56页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的结合性能 | 第56-61页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2对 Pb~(2+)离子的选择性 | 第61-62页 |
| ·印迹条件对 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2结合选择性能的影响 | 第62-63页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的动态结合性能 | 第63-65页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的动态解吸性能 | 第65页 |
| ·印迹材料 Pb~(2+)-IIP-SHA/SiO_2的重复使用性能 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 5 槲皮素表面印迹材料的制备及其识别特性研究 | 第68-83页 |
| ·实验部分 | 第68-72页 |
| ·试剂与仪器 | 第68-69页 |
| ·标准曲线的测定 | 第69页 |
| ·考察复合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2对槲皮素分子的吸附性能 | 第69-70页 |
| ·槲皮素分子表面印迹材料的制备 | 第70页 |
| ·静态法考察 Qu-MIP-SHA/SiO_2对槲皮素分子的结合性能 | 第70-71页 |
| ·动态法考察 Qu-MIP-SHA/SiO_2对槲皮素分子的结合性能 | 第71-72页 |
| ·考察印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2的重复使用性能 | 第72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-81页 |
| ·槲皮素分子表面印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2的制备 | 第72-73页 |
| ·复合吸附材料 SHA-PHEMA/SiO_2对槲皮素分子的吸附性能 | 第73-77页 |
| ·静态法考察 Qu-MIP-SHA/SiO_2的结合性能 | 第77-78页 |
| ·印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2对槲皮素分子的选择性 | 第78-79页 |
| ·印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2的动态结合性能 | 第79-80页 |
| ·印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2的动态洗脱性能 | 第80-81页 |
| ·印迹材料 Qu-MIP-SHA/SiO_2的重复使用性能 | 第81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 6 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-94页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
