致谢 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-12页 |
目录 | 第12-15页 |
第1章 绪论 | 第15-43页 |
·同步辐射掠入射 X 射线散射(SR‐GIXS) | 第15-21页 |
·同步辐射简介 | 第15-16页 |
·掠入射 X 射线散射技术简介 | 第16-18页 |
·掠入射 X 射线散射技术的发展状况 | 第18-20页 |
·掠入射 X 射线散射的应用领域 | 第20-21页 |
·自组装介孔薄膜与自组装聚电解质多层膜 | 第21-35页 |
·自组装介孔薄膜的制备方法 | 第21-22页 |
·自组装介孔薄膜的微观结构 | 第22-23页 |
·自组装介孔薄膜的应用前景 | 第23-26页 |
·自组装聚电解质多层膜的制备方法 | 第26-27页 |
·自组装聚电解质多层膜的形成机理和生长模式 | 第27-30页 |
·自组装聚电解质多层膜的微观结构 | 第30-32页 |
·自组装聚电解质多层膜的应用前景 | 第32-35页 |
·掠入射散射在自组装介孔薄膜和聚电解质多层膜微观结构研究的现状 | 第35-41页 |
·掠入射散射在自组装介孔薄膜微观结构研究的现状 | 第35-38页 |
·掠入射X射线散射在聚电解质多层膜结构研究的现状 | 第38-41页 |
·本论文的研究目的和内容 | 第41-43页 |
第2章 掠入射 X 射线小角散射的基本理论 | 第43-57页 |
·掠入射 X 射线散射的基本理论 | 第43-48页 |
·掠入射X射线散射截面 | 第43-45页 |
·散射截面的波恩(BA)近似 | 第45-46页 |
·散射截面的畸变波波恩(DWBA)近似 | 第46页 |
·相干长度与散射截面的关联 | 第46-48页 |
·稀疏体系的掠入射 X 射线散射模型 | 第48-52页 |
·孤立粒子在基底表面的散射模型 | 第48-50页 |
·孤立粒子嵌入基底内部的散射模型 | 第50-51页 |
·孤立粒子嵌入在薄膜内部的散射模型 | 第51-52页 |
·稠密体系的掠入射 X 射线散射模型 | 第52-57页 |
·稠密体系的散射截面 | 第52-54页 |
·稠密体系的散射截面近似处理方法 | 第54-57页 |
第3章 同步辐射掠入射 X 射线散射实验方法发展 | 第57-73页 |
·掠入射 X 射线散射实验平台 | 第57-59页 |
·掠入射 X 射线散射实验平台(上海光源小角散射线站) | 第57-59页 |
·掠入射 X 射线散射的原位控温装置 | 第59-60页 |
·掠入射 X 射线散射的数据预处理 | 第60-70页 |
·散射数据坐标系的转换和标定 | 第61-66页 |
·散射数据的积分处理 | 第66-67页 |
·散射数据的吸收和背底散射的修正 | 第67页 |
·散射数据的批量处理平台 | 第67-70页 |
·本章小结 | 第70-73页 |
第4章 介孔薄膜微观结构与模板剂去除过程的原位 GISAXS 研究 | 第73-89页 |
·引言 | 第73页 |
·实验部分 | 第73-75页 |
·介孔薄膜的制备 | 第73-74页 |
·掠入射 X 射线小角散射实验 | 第74-75页 |
·介孔薄膜的模板剂去除过程实验 | 第75页 |
·结果与讨论 | 第75-86页 |
·介孔薄膜微观结构的 GISAXS 理论模型 | 第75-80页 |
·介孔薄膜的微观结构分析结果 | 第80-83页 |
·介孔薄膜的模板剂去除过程分析 | 第83-86页 |
·本章小结 | 第86-89页 |
第5章 聚电解质多层膜微观结构与生长机理研究 | 第89-109页 |
·引言 | 第89-90页 |
·实验部分 | 第90-92页 |
·聚电解质多层膜的制备 | 第90-91页 |
·聚电解质薄膜的后处理 | 第91页 |
·聚电解质薄膜热处理过程的掠入射散射实验 | 第91页 |
·分析表征方法 | 第91-92页 |
·结果与讨论 | 第92-107页 |
·聚电解质薄膜的微观结构分析 | 第92-97页 |
·聚电解质薄膜的生长机理研究 | 第97-103页 |
·聚电解质薄膜的热处理研究 | 第103-107页 |
·本章小结 | 第107-109页 |
第6章 总结与展望 | 第109-113页 |
·本文主要结论 | 第109-110页 |
·创新性 | 第110-111页 |
·课题展望 | 第111-113页 |
参考文献 | 第113-129页 |
附录 A | 第129-135页 |
作者简历及在攻读学位期间论文发表和研究成果 | 第135-136页 |
作者简历 | 第135页 |
已发表论文和待发表论文 | 第135-136页 |