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自组装介孔薄膜与自组装聚电解质薄膜的掠入射X射线散射研究

致谢第1-7页
摘要第7-9页
Abstract第9-12页
目录第12-15页
第1章 绪论第15-43页
   ·同步辐射掠入射 X 射线散射(SR‐GIXS)第15-21页
     ·同步辐射简介第15-16页
     ·掠入射 X 射线散射技术简介第16-18页
     ·掠入射 X 射线散射技术的发展状况第18-20页
     ·掠入射 X 射线散射的应用领域第20-21页
   ·自组装介孔薄膜与自组装聚电解质多层膜第21-35页
     ·自组装介孔薄膜的制备方法第21-22页
     ·自组装介孔薄膜的微观结构第22-23页
     ·自组装介孔薄膜的应用前景第23-26页
     ·自组装聚电解质多层膜的制备方法第26-27页
     ·自组装聚电解质多层膜的形成机理和生长模式第27-30页
     ·自组装聚电解质多层膜的微观结构第30-32页
     ·自组装聚电解质多层膜的应用前景第32-35页
   ·掠入射散射在自组装介孔薄膜和聚电解质多层膜微观结构研究的现状第35-41页
     ·掠入射散射在自组装介孔薄膜微观结构研究的现状第35-38页
     ·掠入射X射线散射在聚电解质多层膜结构研究的现状第38-41页
   ·本论文的研究目的和内容第41-43页
第2章 掠入射 X 射线小角散射的基本理论第43-57页
   ·掠入射 X 射线散射的基本理论第43-48页
     ·掠入射X射线散射截面第43-45页
     ·散射截面的波恩(BA)近似第45-46页
     ·散射截面的畸变波波恩(DWBA)近似第46页
     ·相干长度与散射截面的关联第46-48页
   ·稀疏体系的掠入射 X 射线散射模型第48-52页
     ·孤立粒子在基底表面的散射模型第48-50页
     ·孤立粒子嵌入基底内部的散射模型第50-51页
     ·孤立粒子嵌入在薄膜内部的散射模型第51-52页
   ·稠密体系的掠入射 X 射线散射模型第52-57页
     ·稠密体系的散射截面第52-54页
     ·稠密体系的散射截面近似处理方法第54-57页
第3章 同步辐射掠入射 X 射线散射实验方法发展第57-73页
   ·掠入射 X 射线散射实验平台第57-59页
     ·掠入射 X 射线散射实验平台(上海光源小角散射线站)第57-59页
   ·掠入射 X 射线散射的原位控温装置第59-60页
   ·掠入射 X 射线散射的数据预处理第60-70页
     ·散射数据坐标系的转换和标定第61-66页
     ·散射数据的积分处理第66-67页
     ·散射数据的吸收和背底散射的修正第67页
     ·散射数据的批量处理平台第67-70页
   ·本章小结第70-73页
第4章 介孔薄膜微观结构与模板剂去除过程的原位 GISAXS 研究第73-89页
   ·引言第73页
   ·实验部分第73-75页
     ·介孔薄膜的制备第73-74页
     ·掠入射 X 射线小角散射实验第74-75页
     ·介孔薄膜的模板剂去除过程实验第75页
   ·结果与讨论第75-86页
     ·介孔薄膜微观结构的 GISAXS 理论模型第75-80页
     ·介孔薄膜的微观结构分析结果第80-83页
     ·介孔薄膜的模板剂去除过程分析第83-86页
   ·本章小结第86-89页
第5章 聚电解质多层膜微观结构与生长机理研究第89-109页
   ·引言第89-90页
   ·实验部分第90-92页
     ·聚电解质多层膜的制备第90-91页
     ·聚电解质薄膜的后处理第91页
     ·聚电解质薄膜热处理过程的掠入射散射实验第91页
     ·分析表征方法第91-92页
   ·结果与讨论第92-107页
     ·聚电解质薄膜的微观结构分析第92-97页
     ·聚电解质薄膜的生长机理研究第97-103页
     ·聚电解质薄膜的热处理研究第103-107页
   ·本章小结第107-109页
第6章 总结与展望第109-113页
   ·本文主要结论第109-110页
   ·创新性第110-111页
   ·课题展望第111-113页
参考文献第113-129页
附录 A第129-135页
作者简历及在攻读学位期间论文发表和研究成果第135-136页
 作者简历第135页
 已发表论文和待发表论文第135-136页

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