| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·光电化学电池制氢 | 第9-13页 |
| ·光电化学电池光解水的基本原理 | 第10-11页 |
| ·半导体材料光电极 | 第11页 |
| ·半导体光电极的改性 | 第11-13页 |
| ·掺杂 | 第11-12页 |
| ·半导体复合 | 第12-13页 |
| ·控制半导体电极的表面形貌 | 第13页 |
| ·Cu_2O简介 | 第13-18页 |
| ·Cu_2O的基本性质与结构 | 第13-14页 |
| ·Cu_2O光催化性能 | 第14-16页 |
| ·Cu_2O薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·阳极氧化法 | 第17页 |
| ·电化学沉积法 | 第17页 |
| ·热氧化法 | 第17-18页 |
| ·CuO的基本性质和研究概况 | 第18-20页 |
| ·CuO的基本性质 | 第18-19页 |
| ·CuO的研究概况 | 第19-20页 |
| ·CuO薄膜的制备方法 | 第20页 |
| ·SnO_2简介 | 第20-21页 |
| ·本文的主要工作 | 第21-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| ·试剂 | 第22页 |
| ·实验仪器 | 第22页 |
| ·基底预处理 | 第22页 |
| ·样品的制备 | 第22-23页 |
| ·纳米岛状Cu_2O和纳米类球状CuO薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·SnO_2溶胶修饰多孔Cu_2O薄膜的制备 | 第23页 |
| ·薄膜的光电性能测试 | 第23-24页 |
| ·薄膜的结构、形貌、光学性质及成分分析 | 第24-28页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第24页 |
| ·激光拉曼散射光谱(Raman) | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第26页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第26-28页 |
| 第三章 纳米岛状Cu_2O薄膜的制备及其可见光光电化学性能 | 第28-39页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·花状Cu薄膜的电化学制备 | 第29-32页 |
| ·恒电流沉积 | 第29-31页 |
| ·多电流阶跃沉积 | 第31-32页 |
| ·纳米岛状Cu_2O薄膜的制备及其可见光光电化学性能 | 第32-38页 |
| ·氧化温度对薄膜形貌和结构的影响 | 第33-34页 |
| ·氧化时间对Cu_2O薄膜光电化学性能及结构形貌的影响 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 SnO_2溶胶修饰多孔Cu_2O薄膜的制备及其可见光光电化学性能 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-48页 |
| ·薄膜组成及其形貌分析 | 第40-42页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第42-45页 |
| ·薄膜的光电化学性能 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 纳米类球状CuO薄膜的制备及其可见光光电化学性能 | 第49-57页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-55页 |
| ·CuO薄膜的结构与形貌 | 第49-50页 |
| ·CuO薄膜的光电化学性能 | 第50-52页 |
| ·SnO_2溶胶修饰的CuO薄膜的结构、形貌及光电化学性能 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第六章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第81-82页 |
| 浙江师范大学学位论文诚信承诺书 | 第82-83页 |
