| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·AlN结构、性质与应用 | 第12页 |
| ·AlN纳米结构的国内外研究现状 | 第12-15页 |
| ·模板限制方法 | 第13-14页 |
| ·直流电弧放电法 | 第14页 |
| ·有催化剂的气液固(VLS)方法 | 第14-15页 |
| ·无催化剂的气固(VS)生长方法 | 第15页 |
| ·生长机理 | 第15-17页 |
| ·VLS生长机理 | 第16页 |
| ·VS生长机理 | 第16-17页 |
| ·SLS机理 | 第17页 |
| ·AlN纳米结构的常用表征方法 | 第17-19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)进行形貌表征 | 第17页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)进行微观形貌表征 | 第17-18页 |
| ·拉曼(Raman)光谱和共振拉曼(Resonant Raman)光谱 | 第18页 |
| ·X射线分析仪进行成分分析 | 第18页 |
| ·光致发光光谱 | 第18-19页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第19页 |
| ·场发射阴极材料的原理与种类 | 第19-21页 |
| ·场发射原理 | 第19-20页 |
| ·金属阴极材料 | 第20页 |
| ·碳纳米管阴极材料 | 第20页 |
| ·半导体阴极材料 | 第20-21页 |
| ·本文主要研究内容和主要思路 | 第21-22页 |
| 第2章 AlN纳米结构的制备与形貌调控 | 第22-33页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-23页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22页 |
| ·实验流程 | 第22-23页 |
| ·样品表征 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-32页 |
| ·结构与形貌 | 第24-26页 |
| ·AlN纳米棒的生长机理分析 | 第26-28页 |
| ·AlN纳米结构的拉曼性能研究 | 第28-29页 |
| ·AlN纳米结构的光致发光性能研究 | 第29-30页 |
| ·场发射性能的研究 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 AlN生长模板的制备研究 | 第33-40页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第34页 |
| ·PS胶体微球的制备 | 第34页 |
| ·水气界面自组装PS胶体晶体单层 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 图案化AlN纳米结构的制备与性能研究 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第40-41页 |
| ·实验步骤 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·生长机理分析 | 第42-45页 |
| ·图案化后的性能优化分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 结论与工作展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 附录 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |