| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·非晶碳膜的结构和分类 | 第10-11页 |
| ·类石墨碳膜的制备 | 第11-12页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第11-12页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第12页 |
| ·液相电化学沉积 | 第12页 |
| ·类石墨碳膜的表征 | 第12-18页 |
| ·形貌分析 | 第13页 |
| ·结构分析 | 第13-16页 |
| ·磁学性能表征 | 第16页 |
| ·场发射性能表征 | 第16-18页 |
| ·电化学沉积类石墨碳膜 | 第18-20页 |
| ·实验装置及基本原理 | 第18-19页 |
| ·电化学沉积类石墨碳膜的反应机理 | 第19-20页 |
| ·类石墨碳膜研究现状 | 第20-21页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 Fe、Co、Ni/GLC复合薄膜电化学沉积及表征 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-24页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·薄膜制备 | 第23页 |
| ·表征方法 | 第23-24页 |
| ·Fe、Co、Ni/GLC纳米复合薄膜的结构与性能 | 第24-31页 |
| ·SEM分析 | 第24页 |
| ·XRD分析 | 第24-26页 |
| ·Raman分析 | 第26-27页 |
| ·XPS分析 | 第27-29页 |
| ·VSM性能 | 第29-30页 |
| ·场发射性能 | 第30-31页 |
| ·薄膜沉积机理 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 氮气环境下Fe、Co、Ni/GLC复合薄膜电化学沉积及表征 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·薄膜制备与表征 | 第34页 |
| ·氮气环境下Fe、Co、Ni/GLC纳米复合薄膜的结构与性能 | 第34-40页 |
| ·XRD分析 | 第34-35页 |
| ·Raman分析 | 第35-36页 |
| ·XPS分析 | 第36-37页 |
| ·VSM性能 | 第37-38页 |
| ·场发射性能 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 FeCo共掺杂类富勒烯结构复合薄膜的制备及表征 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·薄膜制备与表征 | 第41-42页 |
| ·类富勒烯结构复合薄膜的结构与磁学性质 | 第42-46页 |
| ·XRD分析 | 第42页 |
| ·TEM分析 | 第42-43页 |
| ·Raman分析 | 第43-44页 |
| ·XPS分析 | 第44-45页 |
| ·VSM性能 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录 | 第55页 |
