基于相位补偿的光波导相控阵波束校准与优化方法研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·研究内容与结构安排 | 第13-15页 |
| 第二章 光波导相控阵的工作原理 | 第15-25页 |
| ·光波导相控阵系统的结构组成 | 第15-16页 |
| ·光波导相控阵理想光栅衍射叠加模型及扫描特性 | 第16-19页 |
| ·理想光栅衍射叠加模型 | 第16-17页 |
| ·光波导相控阵的扫描特性 | 第17-19页 |
| ·光波导相控阵的扫描控制方法 | 第19-23页 |
| ·光波导材料的电光效应 | 第19-21页 |
| ·一般加电方案 | 第21-22页 |
| ·2π加电方案 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 基于电磁理论的光波导阵列辐射场分析 | 第25-39页 |
| ·空间辐射场分布建模 | 第25-32页 |
| ·平板光波导内的场分布函数 | 第25-28页 |
| ·光波导阵列间的耦合效应 | 第28-31页 |
| ·光波导阵列衍射叠加 | 第31-32页 |
| ·模拟计算及分析 | 第32-37页 |
| ·模拟计算结果 | 第32-35页 |
| ·分析验证 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 光波导相控阵非理想衍射场因素分析 | 第39-47页 |
| ·影响衍射场分布因素 | 第39-44页 |
| ·光波导阵列芯片制作工艺误差 | 第39-42页 |
| ·入射光高斯初始分布 | 第42-43页 |
| ·入射光斜入射 | 第43页 |
| ·控制系统误差影响 | 第43页 |
| ·光波导芯片电性能的影响 | 第43-44页 |
| ·出射端光场分布对远场分布的影响 | 第44-46页 |
| ·出射端振幅分布非理想 | 第44-45页 |
| ·相位分布非理想 | 第45页 |
| ·单元位置非理想 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 光波导相控阵相位补偿算法研究 | 第47-59页 |
| ·自适应相位补偿系统的建立 | 第47-50页 |
| ·自适应相位补偿基本流程 | 第47-48页 |
| ·光波导光学相控阵控制电压的补偿方法 | 第48-49页 |
| ·光波导相控阵系统空间辐射场性能分析 | 第49-50页 |
| ·基于模式搜索的相位补偿方法 | 第50-55页 |
| ·参数化建模 | 第50-51页 |
| ·基于模式搜索法的相位补偿流程 | 第51-53页 |
| ·仿真分析 | 第53-55页 |
| ·基于相位恢复的相位补偿算法 | 第55-58页 |
| ·基于相位恢复的相位补偿的基本流程 | 第55-57页 |
| ·仿真分析 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 硕士在读期间的研究成果 | 第67-68页 |
