| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-35页 |
| ·质谱研究方法 | 第9-10页 |
| ·质谱的发展情况 | 第10-12页 |
| ·质谱仪工作原理 | 第12页 |
| ·质谱仪的结构 | 第12-13页 |
| ·离子源(Ion Source) | 第13-19页 |
| ·电子轰击电离源(EI) | 第13-14页 |
| ·电喷雾电离源(ESI) | 第14-15页 |
| ·基质辅助激光解析离子源(MALDI) | 第15-17页 |
| ·光电离(Photoionization) | 第17-19页 |
| ·质量分析器(Mass Analyzer) | 第19-23页 |
| ·飞行时间(Time-of-flight) | 第19-21页 |
| ·四极杆(Quadrupole) | 第21-22页 |
| ·离子阱(Ion trap) | 第22-23页 |
| ·傅立叶变换离子回旋共振(Fourier transform ion cyclotron resonance) | 第23页 |
| ·质谱中的重要参数 | 第23-25页 |
| ·质量范围(Mass range) | 第24页 |
| ·分辨率(Resolution) | 第24-25页 |
| ·精密度、准确度和质量稳定性 | 第25页 |
| ·灵敏度(Sensitivity) | 第25页 |
| ·本课题的研究意义和主要内容 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-35页 |
| 第二章 光电离/垂直引入飞行时间质谱装置搭建 | 第35-51页 |
| ·实验仪器介绍 | 第35页 |
| ·光电离室 | 第35-39页 |
| ·光电离源 | 第36-39页 |
| ·电离室 | 第39页 |
| ·离子导向装置(Ion guide) | 第39-45页 |
| ·毛细管离子导向装置 | 第40页 |
| ·静电透镜(Electrostatic Lens) | 第40-41页 |
| ·离子漏斗(Ion Funnel) | 第41-42页 |
| ·静电离子导向装置 | 第42-43页 |
| ·本实验中质谱离子光学系统的调试 | 第43-45页 |
| ·垂直引入TOF-MS | 第45-46页 |
| ·仪器的性能 | 第46-49页 |
| ·简单化合物的调试 | 第46-47页 |
| ·复杂化合物的调试 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第三章 可反射真空紫外光电离源装置 | 第51-61页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·可反射镀铝膜电极板(Reflectible VUV light source assembly withaluminum-coated electrodes) | 第52-53页 |
| ·热蒸发镀铝膜 | 第52页 |
| ·镀铝膜极板的工作环境 | 第52-53页 |
| ·实验内容及方法 | 第53-57页 |
| ·实验样品及进样方式 | 第53页 |
| ·实验内容 | 第53-57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
