摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
引言 | 第8-9页 |
1 文献总述与论文设想 | 第9-14页 |
·液相法制备 3-甲基吲哚 | 第9-11页 |
·[Pd_2dba_3]催化剂 | 第9页 |
·RuCl_2(PPh_3)_3催化剂 | 第9页 |
·钯盐催化剂 | 第9-10页 |
·镍配合物催化剂 | 第10页 |
·溴化十六烷三甲基铵(CTAB)催化剂 | 第10页 |
·硒盐催化剂 | 第10-11页 |
·络合物催化剂 | 第11页 |
·气相法制备 3-甲基吲哚 | 第11-13页 |
·分子筛催化剂 | 第11页 |
·铁磁尖晶石催化剂 | 第11-12页 |
·金属氧化物催化剂 | 第12页 |
·金属催化剂 | 第12-13页 |
·选题依据与论文设想 | 第13-14页 |
2 实验部分 | 第14-18页 |
·载体、原料及试剂 | 第14页 |
·催化剂制备 | 第14-15页 |
·催化反应 | 第15页 |
·产物分析条件及计算方法 | 第15-16页 |
·产物的分析条件 | 第15-16页 |
·活性和选择性的计算 | 第16页 |
·催化剂的表征 | 第16-18页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第16页 |
·透射电镜(TEM) | 第16页 |
·氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第16-17页 |
·氨气程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第17页 |
·热重-差热(TG-DTA) | 第17-18页 |
3 助剂对 Cu/SiO_2催化剂的影响 | 第18-22页 |
·催化剂的活性和选择性 | 第18页 |
·催化剂的表征 | 第18-21页 |
·XRD | 第18-19页 |
·H_2-TPR | 第19-20页 |
·NH_3-TPD | 第20-21页 |
·本章小结 | 第21-22页 |
4 Cu-Al_2O_3/SiO_2催化剂铝含量的影响 | 第22-26页 |
·催化剂的活性和选择性 | 第22页 |
·催化剂的表征 | 第22-25页 |
·XRD | 第22-23页 |
·H_2-TPR | 第23-24页 |
·NH_3-TPD | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
5 催化剂制备方法对 Cu-Al_2O_3/SiO_2催化剂性能的影响 | 第26-38页 |
·Cu-Al_2O_3/SiO_2(IWI)催化剂的活性和选择性 | 第26页 |
·Cu-Al_2O_3/SiO_2(UI)催化剂的活性和选择性 | 第26-27页 |
·Cu-Al_2O_3/SiO_2(COP)催化剂的活性和选择性 | 第27-29页 |
·焙烧方法的影响 | 第27-28页 |
·焙烧温度的影响 | 第28页 |
·还原温度的影响 | 第28-29页 |
·三种方法制得的催化剂比较 | 第29-36页 |
·三种方法制得的催化剂活性和选择性 | 第29-30页 |
·三种方法制得的催化剂表征 | 第30-36页 |
·Cu-Al_2O_3/SiO_2(COP)催化剂的稳定性 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
结论 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-44页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第44-45页 |
致谢 | 第45页 |