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二氧化硅担载的铜基催化剂上气相合成3-甲基吲哚:助剂和催化剂制备方法的影响

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
引言第8-9页
1 文献总述与论文设想第9-14页
   ·液相法制备 3-甲基吲哚第9-11页
     ·[Pd_2dba_3]催化剂第9页
     ·RuCl_2(PPh_3)_3催化剂第9页
     ·钯盐催化剂第9-10页
     ·镍配合物催化剂第10页
     ·溴化十六烷三甲基铵(CTAB)催化剂第10页
     ·硒盐催化剂第10-11页
     ·络合物催化剂第11页
   ·气相法制备 3-甲基吲哚第11-13页
     ·分子筛催化剂第11页
     ·铁磁尖晶石催化剂第11-12页
     ·金属氧化物催化剂第12页
     ·金属催化剂第12-13页
   ·选题依据与论文设想第13-14页
2 实验部分第14-18页
   ·载体、原料及试剂第14页
   ·催化剂制备第14-15页
   ·催化反应第15页
   ·产物分析条件及计算方法第15-16页
     ·产物的分析条件第15-16页
     ·活性和选择性的计算第16页
   ·催化剂的表征第16-18页
     ·X 射线衍射(XRD)第16页
     ·透射电镜(TEM)第16页
     ·氢气程序升温还原(H_2-TPR)第16-17页
     ·氨气程序升温脱附(NH_3-TPD)第17页
     ·热重-差热(TG-DTA)第17-18页
3 助剂对 Cu/SiO_2催化剂的影响第18-22页
   ·催化剂的活性和选择性第18页
   ·催化剂的表征第18-21页
     ·XRD第18-19页
     ·H_2-TPR第19-20页
     ·NH_3-TPD第20-21页
   ·本章小结第21-22页
4 Cu-Al_2O_3/SiO_2催化剂铝含量的影响第22-26页
   ·催化剂的活性和选择性第22页
   ·催化剂的表征第22-25页
     ·XRD第22-23页
     ·H_2-TPR第23-24页
     ·NH_3-TPD第24-25页
   ·本章小结第25-26页
5 催化剂制备方法对 Cu-Al_2O_3/SiO_2催化剂性能的影响第26-38页
   ·Cu-Al_2O_3/SiO_2(IWI)催化剂的活性和选择性第26页
   ·Cu-Al_2O_3/SiO_2(UI)催化剂的活性和选择性第26-27页
   ·Cu-Al_2O_3/SiO_2(COP)催化剂的活性和选择性第27-29页
     ·焙烧方法的影响第27-28页
     ·焙烧温度的影响第28页
     ·还原温度的影响第28-29页
   ·三种方法制得的催化剂比较第29-36页
     ·三种方法制得的催化剂活性和选择性第29-30页
     ·三种方法制得的催化剂表征第30-36页
   ·Cu-Al_2O_3/SiO_2(COP)催化剂的稳定性第36-37页
   ·本章小结第37-38页
结论第38-39页
参考文献第39-44页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第44-45页
致谢第45页

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