| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| ·光子晶体简介 | 第12-17页 |
| ·一维光子晶体 | 第13-14页 |
| ·二维光子晶体 | 第14-16页 |
| ·三维光子晶体 | 第16-17页 |
| ·二维光子晶体波导器件 | 第17-22页 |
| ·二维光子晶体波导 | 第17-20页 |
| ·二维光子晶体滤波器及波分复用器 | 第20-22页 |
| ·光子晶体器件的制备技术 | 第22-23页 |
| ·论文研究的主要内容及文章结构安排 | 第23-26页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第23-24页 |
| ·论文的结构安排 | 第24-26页 |
| 第2章 光子晶体理论基础 | 第26-38页 |
| ·平面波展开法 | 第26-28页 |
| ·时域有限差分法 | 第28-35页 |
| ·时域有限差分法简介 | 第28-29页 |
| ·Yee氏网格 | 第29页 |
| ·FDTD算法 | 第29-32页 |
| ·数值稳定性条件 | 第32-33页 |
| ·吸收边界条件 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-38页 |
| 第3章 轴向填充率渐变型二维光子晶体 | 第38-48页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·轴向填充率渐变性光子晶体的结构设计 | 第39-45页 |
| ·本章小结 | 第45-48页 |
| 第4章 液晶调制光子晶体微腔光衰减器 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·光衰减器模拟优化 | 第49-50页 |
| ·数值计算与分析 | 第50-56页 |
| ·微腔结构设计 | 第50-55页 |
| ·器件性能模拟 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 光控液晶光子晶体微腔全光开关 | 第58-72页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·全光开关的设计与优化 | 第59-60页 |
| ·数值计算与分析 | 第60-69页 |
| ·微腔结构设计 | 第60-67页 |
| ·器件性能分析 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-72页 |
| 第6章 二维光子晶体波导器件制备研究 | 第72-86页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·轴向填充率渐变型二维光子晶体的制作 | 第72-77页 |
| ·填充率渐变二维光子晶体的制作流程和结果 | 第73-75页 |
| ·电化学腐蚀制备方孔三角结构二维光子晶体 | 第75-77页 |
| ·电化学腐蚀工艺制备宽禁带三角晶格六边孔二维光子晶体 | 第77-78页 |
| ·金属催化化学腐蚀法制备二维光子晶体 | 第78-82页 |
| ·金属催化化学腐蚀基本原理 | 第78-79页 |
| ·金属催化化学腐蚀制备窄禁带蜂窝状晶格二维光子晶体结构 | 第79-81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-82页 |
| ·金属催化化学腐蚀工艺的延伸研究 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第7章 总结与展望 | 第86-88页 |
| ·总结 | 第86-87页 |
| ·创新点 | 第87页 |
| ·展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-100页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第100-102页 |
| 指导教师及作者简介 | 第102-104页 |
| 致谢 | 第104页 |