| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·光学薄膜技术的应用和发展 | 第9-10页 |
| ·光学薄膜的常用制备方法 | 第10-12页 |
| ·原子层沉积技术发展历史 | 第12-13页 |
| ·本论文的主要研究内容和创新点 | 第13-15页 |
| 第二章 原子层沉积原理及系统介绍 | 第15-24页 |
| ·原子层沉积反应原理和条件 | 第15-20页 |
| ·原子层沉积反应原理 | 第15-18页 |
| ·原子层沉积制备氧化物薄膜的反应条件 | 第18-19页 |
| ·原子层沉积与传统光学薄膜制备技术的比较 | 第19-20页 |
| ·原子层沉积系统介绍 | 第20-23页 |
| ·薄膜特性测试系统 | 第23-24页 |
| ·薄膜光学特性测试 | 第23页 |
| ·薄膜微结构和组分测试 | 第23-24页 |
| 第三章 原子层沉积制备单层氧化物薄膜及特性分析 | 第24-42页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·薄膜制备实验条件 | 第24-25页 |
| ·单层薄膜制备及特性研究 | 第25-41页 |
| ·单层Al_2O_3薄膜 | 第25-29页 |
| ·单层TiO_2薄膜 | 第29-34页 |
| ·单层Ta_2O_5薄膜 | 第34-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 原子层沉积制备多层膜 | 第42-59页 |
| ·ALD反应初始成膜机理 | 第42-43页 |
| ·Al_2O_3/TiO_2薄膜过渡区沉积速率研究 | 第43-50页 |
| ·椭偏测试原理 | 第43-45页 |
| ·椭偏测试分析系统 | 第45-46页 |
| ·Al_2O_3/TiO_2薄膜过渡区沉积速率标定 | 第46-48页 |
| ·ALD制备减反膜 | 第48-50页 |
| ·ALD制备任意折射率薄膜 | 第50-53页 |
| ·ALD制备阻隔层薄膜 | 第53-58页 |
| ·引言和介绍 | 第53-54页 |
| ·实验 | 第54-56页 |
| ·结果和讨论 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 作者简介 | 第67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |