首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--光电子技术、激光技术论文--波导光学与集成光学论文--集成光学器件论文

硅基周期波导微腔集成光器件的研究

致谢第1-7页
摘要第7-9页
Abstract第9-11页
插图第11-15页
表格第15-16页
缩写、符号清单、术语表第16-17页
目次第17-19页
1 绪论第19-36页
   ·引言第19-20页
   ·硅基集成光子学的发展第20-21页
   ·光子晶体的研究现状第21-27页
   ·光子晶体的数值计算方法简介第27-30页
   ·光子晶体平面制备工艺第30-32页
   ·集成光无源器件的测试方法第32-34页
   ·本文的创新点和研究思路第34-36页
2 介质波导的模式限制极限第36-47页
   ·引言第36-37页
   ·基本模型第37-38页
   ·最小模斑尺寸及其波导尺寸条件第38-43页
   ·计算与讨论第43-46页
   ·本章小结第46-47页
3 基于混合表面等离激元周期波导的高Q值微腔第47-57页
   ·引言第47-50页
   ·混合表面等离子周期波导第50-51页
   ·混合表面等离子波导微腔的模型及设计第51-52页
   ·计算及讨论第52-55页
   ·本章小节第55-57页
4 超低V超高Q狭缝及空芯周期波导微腔第57-82页
   ·引言第57-60页
   ·光子晶体微腔的高Q设计方法第60-61页
   ·狭缝波导及空芯波导的模式特性第61-62页
   ·超低V高Q周期波导微腔的设计和讨论第62-81页
   ·本章小节第81-82页
5 基于周期波导微腔的超紧凑通道下载滤波器第82-98页
   ·引言第82-83页
   ·基本模型和时间耦合模理论分析第83-89页
   ·滤波器设计及数值计算第89-95页
   ·本章小结第95-98页
6 周期介质波导微腔的实验第98-116页
   ·器件的制作平台第98-99页
   ·测试方法第99-100页
   ·CMOS工艺线制作平面光子晶体器件的实验第100-101页
   ·EBL工艺制作波导微腔的实验第101-114页
   ·工艺对比及讨论第114页
   ·本章小节第114-116页
7 总结和展望第116-119页
   ·研究总结第116-117页
   ·工作中的不足及展望第117-119页
参考文献第119-134页
作者简历第134-135页
发表文章目录第135-136页

论文共136页,点击 下载论文
上一篇:电磁波单向导波及相关非互易功能器件研究
下一篇:建筑业劳动力未来供给趋势及影响因素研究--基于杭州市的实证与分析