焦化苯中噻吩的脱除研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·焦化苯中的主要硫化物 | 第11-12页 |
| ·硫化碳 | 第11页 |
| ·噻吩 | 第11-12页 |
| ·焦化苯中脱除噻吩的方法 | 第12-18页 |
| ·焦化苯中脱除噻吩的化学方法 | 第12-15页 |
| ·脱除噻吩的物理方法 | 第15-17页 |
| ·其他脱除噻吩的方法 | 第17-18页 |
| ·氧化脱硫技术 | 第18-25页 |
| ·氧化脱硫原理 | 第18-19页 |
| ·氧化脱硫技术研究进展 | 第19-25页 |
| ·论文选题 | 第25-27页 |
| 2 实验部分 | 第27-37页 |
| ·实验原料和仪器 | 第27-28页 |
| ·实验原料和规格 | 第27页 |
| ·实验仪器与设备 | 第27-28页 |
| ·实验方案设计 | 第28-33页 |
| ·酸洗法生产“三苯”工艺概述 | 第28-32页 |
| ·实验方案 | 第32-33页 |
| ·脱硫实验 | 第33-34页 |
| ·主要试液的配置 | 第33页 |
| ·脱硫实验方法 | 第33-34页 |
| ·全硫含量的测定 | 第34-36页 |
| ·紫外荧光法测硫原理 | 第34页 |
| ·紫外荧光法测总硫实验 | 第34-36页 |
| ·脱硫残渣处理 | 第36-37页 |
| ·纳米二氧化锰的制备 | 第36页 |
| ·锰锂氧化物复合材料材料的制备 | 第36页 |
| ·材料的表征及分析 | 第36-37页 |
| 3 焦化苯中噻吩深度脱除技术 | 第37-60页 |
| ·高锰酸钾脱除焦化苯中噻吩 | 第37-40页 |
| ·氧化剂的选取 | 第37-38页 |
| ·高锰酸钾脱除噻吩实验 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-40页 |
| ·高锰酸钾-盐酸体系脱除噻吩的研究 | 第40-48页 |
| ·KMnO_4-HCl体系脱噻吩原理分析 | 第40-42页 |
| ·pH值对噻吩脱除的影响 | 第42页 |
| ·氧化剂用量对噻吩脱除的影响 | 第42-43页 |
| ·介质体积对噻吩脱除的影响 | 第43-44页 |
| ·时间对噻吩脱除的影响 | 第44-45页 |
| ·温度对噻吩脱除的影响 | 第45-46页 |
| ·盐酸过量时对噻吩脱除的影响 | 第46页 |
| ·KMnO_4-HCl体系正交设计实验 | 第46-48页 |
| ·高锰酸钾-氯化铁体系脱除噻吩的研究 | 第48-54页 |
| ·KMnO_4-FeCl_3体系脱噻吩原理分析 | 第48-49页 |
| ·反应时间对噻吩脱除的影响 | 第49-50页 |
| ·氧化剂用量对噻吩脱除的影响 | 第50-51页 |
| ·氯化铁用量对噻吩脱除的影响 | 第51-52页 |
| ·介质体积对脱除噻吩的影响 | 第52页 |
| ·温度对噻吩脱除的影响 | 第52-53页 |
| ·KMnO_4FeCl_3体系正交设计实验 | 第53-54页 |
| ·不同体系脱硫效果的评价 | 第54-55页 |
| ·脱硫机理分析 | 第55-58页 |
| ·氧化反应过程 | 第56页 |
| ·氯化反应过程 | 第56-58页 |
| ·氯代产物的分离 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 4 脱硫残渣的处理 | 第60-67页 |
| ·高锰酸钾的最终还原产物分析 | 第60-61页 |
| ·纳米二氧化锰制备 | 第61-64页 |
| ·纳米二氧化锰材料的制备 | 第61-62页 |
| ·材料的表征分析 | 第62-64页 |
| ·锰锂氧化物复合材料的制备 | 第64-66页 |
| ·锰锂复合材料的制备 | 第64-65页 |
| ·材料的表征与分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 5 结论 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 附录 | 第78页 |
