| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-13页 |
| ·研究背景及意义 | 第7-8页 |
| ·陶瓷材料的抛光技术发展 | 第8页 |
| ·陶瓷滚子的抛光技术 | 第8-9页 |
| ·磁流变液的国内外研究现状 | 第9页 |
| ·磁流变抛光技术发展现状 | 第9-11页 |
| ·国外发展现状 | 第10页 |
| ·国内发展现状 | 第10-11页 |
| ·研究内容 | 第11-13页 |
| 第2章 磁流变抛光液的研制 | 第13-21页 |
| ·磁流变液简介 | 第13-14页 |
| ·磁流变液的流变效应 | 第14-15页 |
| ·磁流变液的性能要求 | 第15-16页 |
| ·磁流变抛光液的配制 | 第16-20页 |
| ·磁流变抛光液的基载液 | 第16页 |
| ·磁流变抛光液的磁敏微粒 | 第16-17页 |
| ·磁流变抛光液的表面活性剂 | 第17-18页 |
| ·磁流变抛光液的抛光磨料 | 第18-19页 |
| ·磁流变抛光液的其它添加剂 | 第19页 |
| ·磁流变抛光液的配方 | 第19页 |
| ·磁流变抛光液配制方法 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 磁流变超声波复合抛光陶瓷滚子试验装置研制 | 第21-29页 |
| ·磁流变超声波复合抛光的原理 | 第21-22页 |
| ·陶瓷滚子抛光装置 | 第22-23页 |
| ·超声电源 | 第23-24页 |
| ·超声振动系统 | 第24-25页 |
| ·陶瓷滚子抛光试验装置的控制部分 | 第25-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 磁流变超声波复合抛光去除机理及数学模型的建立 | 第29-41页 |
| ·磁流变液对抛光过程的影响 | 第29-30页 |
| ·抛光机理的传统解释 | 第30-31页 |
| ·磁流变抛光在磁场作用下的材料去除机理 | 第31-33页 |
| ·磁流变超声波复合抛光材料去除数学模型 | 第33-40页 |
| ·陶瓷滚子抛光过程中受到的流体动压力p_d | 第35-37页 |
| ·陶瓷滚子受到的磁场力p_m | 第37-38页 |
| ·抛光主轴与陶瓷滚子端面的最大冲击力p_o | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 陶瓷滚子的抛光工艺试验研究 | 第41-55页 |
| ·陶瓷滚子抛光的工艺试验 | 第41-43页 |
| ·陶瓷滚子抛光的具体试验步骤 | 第41-42页 |
| ·陶瓷滚子抛光的主要工艺参数研究 | 第42-43页 |
| ·陶瓷滚子的抛光去除效率试验 | 第43-48页 |
| ·陶瓷滚子抛光表面粗糙度试验 | 第48-53页 |
| ·陶瓷滚子抛光工艺参数的优化 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第62页 |