| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·概述 | 第8-13页 |
| ·国内外氢气传感器研究现状 | 第8-12页 |
| ·纳米级氢气传感器 | 第12-13页 |
| ·课题研究的目的、意义及经费来源 | 第13-14页 |
| ·氧化石墨氢气传感器 | 第14-17页 |
| ·氧化石墨氢气传感器基本原理 | 第14-16页 |
| ·氧化石墨氢气传感器基本结构 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-19页 |
| 2 传感器芯片的设计与制作工艺 | 第19-28页 |
| ·概述 | 第19-24页 |
| ·光刻技术简介 | 第19-22页 |
| ·热蒸镀技术简介 | 第22-24页 |
| ·传感器芯片的制作工艺 | 第24-27页 |
| ·仪器及设备 | 第24页 |
| ·化学试剂 | 第24页 |
| ·电极制备 | 第24-27页 |
| ·实验结果 | 第27页 |
| ·本章小节 | 第27-28页 |
| 3 传感器器敏感材料氧化石墨薄膜的制备 | 第28-34页 |
| ·概述 | 第28页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第28-32页 |
| ·实验原料及仪器 | 第28页 |
| ·实验过程 | 第28-29页 |
| ·实验结果 | 第29页 |
| ·氧化石墨的特性测试及分析 | 第29-32页 |
| ·前期取得的不足和改进 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 4 热还原氧化石墨的特性分析 | 第34-48页 |
| ·概述 | 第34页 |
| ·传感器加热模块的设计 | 第34-36页 |
| ·还原氧化石墨的特性分析 | 第36-46页 |
| ·X 射线衍射基本原理及还原氧化石墨的 XRD 特性分析 | 第36-39页 |
| ·傅立叶变换红外光谱基本原理及还原氧化石墨的 FT- IR 特性分析 | 第39-43页 |
| ·X 射线光电子能谱基本原理及还原氧化石墨的 XPS 特性分析 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 5 传感器气敏特性测试及实验结果分析 | 第48-56页 |
| ·概述 | 第48页 |
| ·实验过程 | 第48-49页 |
| ·实验结果及分析 | 第49-54页 |
| ·rGO070a 在室温下的氢气动态检测特性 | 第49-50页 |
| ·rGO200v 在不同温度下的氢气动态检测 | 第50-52页 |
| ·rGO500v 在不同状况下的氢气特性检测 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 总结与展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及所取得的研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
