| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·磁存储技术的发展回顾与展望 | 第8-10页 |
| ·垂直磁记录技术的原理 | 第10-14页 |
| ·水平磁记录简述 | 第10-11页 |
| ·垂直磁记录技术的发展 | 第11-14页 |
| ·L1_0-FePt介质的性质与研究进展 | 第14-17页 |
| ·L1_0-FePt材料结构 | 第14-16页 |
| ·L1_0-FePt材料的研究进展 | 第16-17页 |
| ·本文的研究范围与目标 | 第17-18页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第18-25页 |
| ·薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射设备工作原理 | 第18-20页 |
| ·超高真空磁控溅射仪 | 第20-21页 |
| ·薄膜的表征 | 第21-25页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第21-22页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| ·多功能磁学测量系统VersaLab | 第23页 |
| ·振动样品磁强计法(VSM) | 第23-25页 |
| 第三章 L1_0-FePt薄膜的制备及其结构、磁性的研究 | 第25-37页 |
| ·简介 | 第25页 |
| ·L1_0-FePt薄膜的制备 | 第25页 |
| ·L1_0-FePt薄膜的结构与磁性 | 第25-35页 |
| ·L1_0-FePt薄膜的结构分析 | 第25-29页 |
| ·L1_0-FePt薄膜的磁性分析 | 第29-35页 |
| ·小结 | 第35-37页 |
| 第四章 L1_0-FePt耦合膜的磁性研究 | 第37-43页 |
| ·FePt/Fe双层膜的磁性研究 | 第37-40页 |
| ·FePt/Fe样品的制备 | 第37页 |
| ·FePt/Fe耦合膜磁性研究 | 第37-40页 |
| ·L1_0o-FePt/TbFeCo双层膜的磁性研究 | 第40-43页 |
| ·12nmTbFeCo垂直膜的制备 | 第40页 |
| ·L1_0-FePt/TbFeCo双层膜的磁性 | 第40-43页 |
| 第五章 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 硕士期间发表论文 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
