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纳米结构Ni-Si3N4/TiN复合薄膜的电化学制备及其相关性能研究

摘要第1-11页
ABSTRACT第11-14页
第一章 绪论第14-40页
   ·前言第14-15页
   ·纳米材料的基本特性第15-17页
     ·量子尺寸效应第16页
     ·小尺寸效应第16页
     ·表面和接口效应第16-17页
     ·宏观量子隧道效应第17页
   ·纳米复合镀技术第17-32页
     ·电沉积制备纳米材料的方法第18-19页
     ·纳米复合镀层的分类第19-25页
       ·防护与装饰性纳米复合镀层第21-22页
       ·耐磨性复合镀层第22-23页
       ·耐高温抗氧化复合镀层第23页
       ·具有催化性能的纳米复合镀层第23-24页
       ·自润滑镀层第24页
       ·其它性能的纳米复合镀层第24-25页
     ·纳米颗粒与金属离子的共沉积机理第25-27页
     ·纳米复合电镀的国内外研究现状第27-32页
       ·纳米复合电镀的国内外研究现状第27-29页
       ·纳米复合镀存在的问题第29-30页
       ·纳米粒子的团聚现象以及解决方法第30-32页
   ·本课题的研究目的、意义和研究内容第32-34页
     ·目的和意义第32-33页
     ·研究内容第33-34页
 本章参考文献第34-40页
第二章 实验内容与测试方法第40-48页
   ·化学试剂和实验仪器第40-41页
     ·实验用化学试剂及规格第40-41页
     ·实验仪器第41页
   ·镀前的准备工作第41-42页
     ·镀液的配置第41-42页
     ·电极的处理第42页
   ·实验方法及装置第42-43页
     ·纳米粒子零电荷电位的测定第42-43页
     ·纳米复合薄膜的制备第43页
   ·测试方法第43-46页
     ·表面形貌观测第43-44页
       ·扫描电子显微镜测试第43-44页
       ·原子力显微镜测试第44页
       ·透射电境测试第44页
         ·XRD测试第44页
     ·电化学测试方法第44-46页
       ·循环伏安与极化曲线的测试第45页
       ·电化学阻抗谱的测试第45-46页
 本章参考文献第46-48页
第三章 Ni-Si_3N_4/TiN纳米复合薄膜的电沉积工艺研究第48-74页
   ·引言第48-49页
   ·纳米Si_3N_4粒子的表面PZC的测定第49-53页
     ·盐添加物法第50-51页
     ·电位滴定法第51-53页
   ·电沉积的主要工艺参数对Ni-Si_3N_4复合薄膜结构的影响第53-62页
     ·纳米粒子浓度的影响第54-55页
     ·电流密度的影响第55-57页
     ·搅拌速度的影响第57-59页
     ·温度的影响第59-60页
     ·溶液pH的影响第60-62页
   ·优化的Ni-Si_3N_4复合薄膜的表征第62-63页
   ·电沉积的主要工艺参数对Ni-TiN复合薄膜结构的影响第63-70页
   ·本章小结第70-71页
 本章参考文献第71-74页
第四章 Ni-Si_3N_4/TiN纳米复合薄膜的电沉积机理研究第74-90页
   ·引言第74页
   ·实验部分第74-76页
     ·循环伏安测试(CV)第75-76页
     ·电化学阻抗测试(EIS)第76页
   ·结果与讨论第76-86页
     ·循环伏安法分析第76-78页
     ·电化学阻抗谱分析第78-86页
   ·本章小结第86-88页
 本章参考文献第88-90页
第五章 纳米Si_3N_4/TiN复合薄膜的腐蚀行为的研究第90-116页
   ·引言第90页
   ·实验方法第90-92页
     ·样品的制备第90-91页
     ·电化学测试第91-92页
   ·试验结果与讨论第92-113页
     ·纳米结构Ni-Si_3N_4薄膜的电化学腐蚀行为第92-104页
     ·纳米结构Ni-TiN薄膜的电化学腐蚀行为第104-113页
   ·本章小结第113-114页
 本章参考文献第114-116页
第六章 总结与展望第116-119页
   ·总结第116-117页
   ·工作展望第117-119页
致谢第119-121页
攻读硕士学位期间发表的论文第121-123页

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