摘要 | 第1-11页 |
ABSTRACT | 第11-14页 |
第一章 绪论 | 第14-40页 |
·前言 | 第14-15页 |
·纳米材料的基本特性 | 第15-17页 |
·量子尺寸效应 | 第16页 |
·小尺寸效应 | 第16页 |
·表面和接口效应 | 第16-17页 |
·宏观量子隧道效应 | 第17页 |
·纳米复合镀技术 | 第17-32页 |
·电沉积制备纳米材料的方法 | 第18-19页 |
·纳米复合镀层的分类 | 第19-25页 |
·防护与装饰性纳米复合镀层 | 第21-22页 |
·耐磨性复合镀层 | 第22-23页 |
·耐高温抗氧化复合镀层 | 第23页 |
·具有催化性能的纳米复合镀层 | 第23-24页 |
·自润滑镀层 | 第24页 |
·其它性能的纳米复合镀层 | 第24-25页 |
·纳米颗粒与金属离子的共沉积机理 | 第25-27页 |
·纳米复合电镀的国内外研究现状 | 第27-32页 |
·纳米复合电镀的国内外研究现状 | 第27-29页 |
·纳米复合镀存在的问题 | 第29-30页 |
·纳米粒子的团聚现象以及解决方法 | 第30-32页 |
·本课题的研究目的、意义和研究内容 | 第32-34页 |
·目的和意义 | 第32-33页 |
·研究内容 | 第33-34页 |
本章参考文献 | 第34-40页 |
第二章 实验内容与测试方法 | 第40-48页 |
·化学试剂和实验仪器 | 第40-41页 |
·实验用化学试剂及规格 | 第40-41页 |
·实验仪器 | 第41页 |
·镀前的准备工作 | 第41-42页 |
·镀液的配置 | 第41-42页 |
·电极的处理 | 第42页 |
·实验方法及装置 | 第42-43页 |
·纳米粒子零电荷电位的测定 | 第42-43页 |
·纳米复合薄膜的制备 | 第43页 |
·测试方法 | 第43-46页 |
·表面形貌观测 | 第43-44页 |
·扫描电子显微镜测试 | 第43-44页 |
·原子力显微镜测试 | 第44页 |
·透射电境测试 | 第44页 |
·XRD测试 | 第44页 |
·电化学测试方法 | 第44-46页 |
·循环伏安与极化曲线的测试 | 第45页 |
·电化学阻抗谱的测试 | 第45-46页 |
本章参考文献 | 第46-48页 |
第三章 Ni-Si_3N_4/TiN纳米复合薄膜的电沉积工艺研究 | 第48-74页 |
·引言 | 第48-49页 |
·纳米Si_3N_4粒子的表面PZC的测定 | 第49-53页 |
·盐添加物法 | 第50-51页 |
·电位滴定法 | 第51-53页 |
·电沉积的主要工艺参数对Ni-Si_3N_4复合薄膜结构的影响 | 第53-62页 |
·纳米粒子浓度的影响 | 第54-55页 |
·电流密度的影响 | 第55-57页 |
·搅拌速度的影响 | 第57-59页 |
·温度的影响 | 第59-60页 |
·溶液pH的影响 | 第60-62页 |
·优化的Ni-Si_3N_4复合薄膜的表征 | 第62-63页 |
·电沉积的主要工艺参数对Ni-TiN复合薄膜结构的影响 | 第63-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
本章参考文献 | 第71-74页 |
第四章 Ni-Si_3N_4/TiN纳米复合薄膜的电沉积机理研究 | 第74-90页 |
·引言 | 第74页 |
·实验部分 | 第74-76页 |
·循环伏安测试(CV) | 第75-76页 |
·电化学阻抗测试(EIS) | 第76页 |
·结果与讨论 | 第76-86页 |
·循环伏安法分析 | 第76-78页 |
·电化学阻抗谱分析 | 第78-86页 |
·本章小结 | 第86-88页 |
本章参考文献 | 第88-90页 |
第五章 纳米Si_3N_4/TiN复合薄膜的腐蚀行为的研究 | 第90-116页 |
·引言 | 第90页 |
·实验方法 | 第90-92页 |
·样品的制备 | 第90-91页 |
·电化学测试 | 第91-92页 |
·试验结果与讨论 | 第92-113页 |
·纳米结构Ni-Si_3N_4薄膜的电化学腐蚀行为 | 第92-104页 |
·纳米结构Ni-TiN薄膜的电化学腐蚀行为 | 第104-113页 |
·本章小结 | 第113-114页 |
本章参考文献 | 第114-116页 |
第六章 总结与展望 | 第116-119页 |
·总结 | 第116-117页 |
·工作展望 | 第117-119页 |
致谢 | 第119-121页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第121-123页 |