| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·超硬薄膜 | 第8-9页 |
| ·纳米晶复合膜 | 第9-16页 |
| ·分类 | 第9-12页 |
| ·设计原理 | 第12-13页 |
| ·微观结构 | 第13-15页 |
| ·Hall-Petch关系 | 第15页 |
| ·脆性理论 | 第15-16页 |
| ·纳米晶复合膜的其它性能 | 第16页 |
| ·纳米多层膜 | 第16-19页 |
| ·纳米多层膜的超硬现象 | 第17-18页 |
| ·不同元素对Cr基氮化物薄膜的影响 | 第18-19页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第19-23页 |
| ·物理气相沉积(Physical Vaper Deposition) | 第19-22页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第22-23页 |
| ·本课题的立题依据和研究意义 | 第23-25页 |
| 第二章 Ti-Si-N复合膜的制备与性能 | 第25-39页 |
| ·磁控溅射制备Ti-Si-N纳米晶复合膜 | 第25-28页 |
| ·基底的预处理 | 第25-26页 |
| ·直流磁控溅射制备nc-TiN/α-Si_3N_4纳米复合薄膜的步骤 | 第26-28页 |
| ·Ti-Si-N纳米晶复合膜的微观结构和性能的分析测试 | 第28-30页 |
| ·薄膜的微观结构分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜的摩擦磨损性能测试 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-38页 |
| ·Ti-Si-N复合膜的成分分析 | 第30页 |
| ·复合膜的表面形貌 | 第30-32页 |
| ·复合膜的XRD分析 | 第32-33页 |
| ·复合膜的HRTEM表征 | 第33-34页 |
| ·复合膜的截面形貌 | 第34-35页 |
| ·Ti-Si-N复合膜与基底结合力的分析 | 第35-36页 |
| ·Ti-Si-N复合膜的摩擦系数 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 Cr-W-N、Cr-Mo-N系列薄膜的制备与性能 | 第39-54页 |
| ·磁控溅射制备Cr-W-N、Cr-Mo-N系列薄膜 | 第39-42页 |
| ·基底的预处理 | 第39-40页 |
| ·直流反应磁控溅射制备Cr-W-N、Cr-Mo-N系列多层膜 | 第40-42页 |
| ·Cr-W-N、Cr-Mo-N薄膜的表征、测试及分析 | 第42-53页 |
| ·薄膜的截面形貌 | 第42-43页 |
| ·XRD表征 | 第43-46页 |
| ·表面形貌 | 第46-47页 |
| ·膜基结合强度的表征 | 第47-49页 |
| ·薄膜的摩擦学性能 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 附录 | 第61页 |
