| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| ·脉冲激光烧蚀(PLA)和脉冲激光沉积(PLD) | 第10-12页 |
| ·电子回旋共振(ECR)、ECR等离子体 | 第12-14页 |
| ·电子回旋共振辅助脉冲激光沉积(ECR-PLD) | 第14-15页 |
| ·ZnO材料概述 | 第15-17页 |
| ·ZnO的物理性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO的应用前景 | 第16-17页 |
| ·本文的研究内容和安排 | 第17-18页 |
| 第二章 ECR-PLD法制备ZnO纳米晶薄膜 | 第18-30页 |
| ·ZnO纳米晶薄膜的制备装置 | 第18页 |
| ·ZnO纳米晶薄膜的制备工艺 | 第18-19页 |
| ·ZnO薄膜的形貌和结构 | 第19-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第19-20页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第20-21页 |
| ·拉曼(Raman)散射光谱 | 第21-23页 |
| ·傅立叶变换红外(FTIR)光谱 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射谱(XRD) | 第24-25页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质 | 第25-30页 |
| ·紫外-可见透射谱 | 第25-26页 |
| ·光致发光(Photoluminescence,PL) | 第26-30页 |
| 第三章 退火和衬底材料对ZnO性质的影响 | 第30-45页 |
| ·退火温度的影响 | 第30-38页 |
| ·晶体结构 | 第30-31页 |
| ·ZnO的物相和晶格振动模式 | 第31-33页 |
| ·室温光致发光 | 第33-36页 |
| ·变温光致发光 | 第36-38页 |
| ·衬底材料的影响 | 第38-45页 |
| ·晶体结构 | 第38-41页 |
| ·紫外-可见-近红外透射率 | 第41-42页 |
| ·光致发光 | 第42-45页 |
| 第四章 ZnO薄膜掺杂改性初步分析 | 第45-54页 |
| ·ZnO薄膜掺杂的意义和方法简介 | 第45-47页 |
| ·ZnO的n型掺杂简介 | 第45页 |
| ·ZnO的p型掺杂简介 | 第45-47页 |
| ·ECR-PLD法实现ZnO薄膜的N掺杂 | 第47-50页 |
| ·ECR-PLD法生长N掺杂ZnO薄膜的实验工艺 | 第47页 |
| ·N掺杂ZnO薄膜的光致发光谱 | 第47-49页 |
| ·N掺杂ZnO薄膜的拉曼光谱 | 第49-50页 |
| ·PLD法实现ZnO的As掺杂 | 第50-54页 |
| ·PLD法生长As掺杂ZnO薄膜的实验工艺 | 第50页 |
| ·As掺杂ZnO薄膜的光致发光谱 | 第50-51页 |
| ·As掺杂ZnO的拉曼光谱 | 第51-53页 |
| ·As掺杂ZnO的紫外-可见-近红外透射谱 | 第53-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 后记 | 第63-64页 |
| 研究生期间发表文章 | 第63-64页 |