| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| ·研究背景 | 第14-16页 |
| ·国内外研究现状 | 第16-22页 |
| ·热释电材料及其红外探测器的研究历史与现状 | 第16-18页 |
| ·钽酸锂薄膜及其红外探测器制备技术研究现状 | 第18-22页 |
| ·主要的研究内容和取得的创新研究成果 | 第22-24页 |
| 第二章 热释电红外探测器工作原理 | 第24-36页 |
| ·钽酸锂晶体结构与热释电效应 | 第24-26页 |
| ·热释电红外探测器工作原理 | 第26-28页 |
| ·热释电红外探测器的性能 | 第28-35页 |
| ·简化的集总参数模型 | 第28-30页 |
| ·噪声和星探测率 | 第30-31页 |
| ·横向热传导的影响 | 第31-34页 |
| ·热释电材料优值 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 多层热释电薄膜红外探测器结构设计 | 第36-58页 |
| ·探测器结构设计方案选择与比较 | 第36-39页 |
| ·结构设计方案 | 第36-37页 |
| ·四种结构方案的比较 | 第37-39页 |
| ·器件结构抗干扰设计 | 第39-41页 |
| ·探测器结构参数设计与仿真研究 | 第41-56页 |
| ·理论依据及仿真模拟软件 | 第41页 |
| ·一维热扩散分析 | 第41-45页 |
| ·探测器的电压响应 | 第45-47页 |
| ·探测器参数设计仿真结果与讨论 | 第47-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 钽酸锂LiTaO_3薄膜溶胶凝胶法制备及性能研究 | 第58-78页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第58-59页 |
| ·LiTaO_3薄膜制备与测试 | 第59-63页 |
| ·LiTaO_3溶胶的配制 | 第59-61页 |
| ·衬底及底电极的选择与制备 | 第61-62页 |
| ·薄膜制备 | 第62页 |
| ·薄膜测试 | 第62-63页 |
| ·实验结果与讨论 | 第63-76页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第63页 |
| ·衬底效应对薄膜结晶的影响 | 第63-64页 |
| ·薄膜厚度效应 | 第64-66页 |
| ·退火温度和退火顺序对薄膜制备的影响 | 第66-68页 |
| ·退火气氛对薄膜性能的影响 | 第68-70页 |
| ·不同底电极对LiTaO_3薄膜结晶性能的影响 | 第70-73页 |
| ·不同底电极对薄膜介电性能的影响 | 第73-75页 |
| ·不同底电极对薄膜铁电和漏电性能的影响 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 新型钽酸锂LiTa_3O_8薄膜制备和电性能研究 | 第78-97页 |
| ·引言 | 第78-79页 |
| ·LiTa_3O_8薄膜的溶胶-凝胶法制备 | 第79-80页 |
| ·LiTa_3O_8溶胶配制 | 第79页 |
| ·LiTa_3O_8薄膜样品制备 | 第79-80页 |
| ·LiTa_3O_8薄膜性能测试 | 第80页 |
| ·LiTa_3O_8陶瓷粉体制备与测试 | 第80-81页 |
| ·LiTa_3O_8陶瓷样品制备 | 第80-81页 |
| ·LiTa_3O_8陶瓷样品测试 | 第81页 |
| ·实验结果与讨论 | 第81-91页 |
| ·陶瓷样品结晶晶向和烧结温度关系 | 第81-83页 |
| ·薄膜和陶瓷结晶晶向比较 | 第83-85页 |
| ·溶剂和原料对LiTa_3O_8溶胶和薄膜制备的影响 | 第85-87页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第87页 |
| ·薄膜的铁电性能分析 | 第87-89页 |
| ·薄膜和陶瓷介电性能分析 | 第89-90页 |
| ·薄膜样品漏电性能和抗击穿性能分析 | 第90-91页 |
| ·钽酸锂薄膜热释电系数测试 | 第91-96页 |
| ·热释电系数测量方法 | 第91-93页 |
| ·热释电系数测量系统组建 | 第93-95页 |
| ·热释电系数测量结果与讨论 | 第95-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第六章 钽酸锂薄膜红外探测单元器件制备 | 第97-109页 |
| ·引言 | 第97-98页 |
| ·基于MEMS技术的单元器件制备工艺 | 第98-108页 |
| ·底电极制备工艺 | 第99-100页 |
| ·新型热释电薄膜的制备工艺 | 第100页 |
| ·上电极的沉积工艺 | 第100-101页 |
| ·图形转移的光刻工艺 | 第101-102页 |
| ·电极引线工艺 | 第102-103页 |
| ·红外吸收层的沉积工艺 | 第103页 |
| ·基于MEMS的SiNx支架的制备 | 第103-104页 |
| ·MEMS体硅刻蚀工艺 | 第104-107页 |
| ·单元器件样品制备 | 第107-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第七章 钽酸锂薄膜红外探测单元器件热电响应测试 | 第109-125页 |
| ·热电响应测量方法 | 第109-111页 |
| ·热电响应测试系统的建立 | 第111-114页 |
| ·测量结果与讨论 | 第114-123页 |
| ·LiTaO_3薄膜探测器测试结果 | 第114-118页 |
| ·LiTa_3O_8薄膜探测器测试结果 | 第118-121页 |
| ·测量误差简要分析 | 第121-122页 |
| ·与其他研究结果的比较 | 第122-123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 第八章总结与展望 | 第125-129页 |
| ·全文总结 | 第125-128页 |
| ·工作展望 | 第128-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-135页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第135-137页 |
