| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-29页 |
| ·纳米技术与纳米材料 | 第7-9页 |
| ·纳米粒子的性质 | 第9-11页 |
| ·纳米二氧化硅的性质及应用 | 第11-17页 |
| ·纳米二氧化硅的制备方法 | 第17-19页 |
| ·磁性纳米四氧化三铁的性质及应用 | 第19-22页 |
| ·磁性纳米四氧化三铁的制备方法 | 第22-24页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-29页 |
| 第二章 纳米二氧化硅的制备与表面改性研究 | 第29-50页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·硅酯水解法制备纳米 SiO_2 | 第30-44页 |
| ·实验部分 | 第30-39页 |
| ·纳米二氧化硅的粒子的合成 | 第30页 |
| ·纳米二氧化硅的粒子的测试与表征 | 第30-34页 |
| ·扫描电子电镜 | 第30-31页 |
| ·二氧化硅粒子的粒度及粒度分布 | 第31-33页 |
| ·二氧化硅粒子的红外谱图 | 第33-34页 |
| ·二氧化硅颗粒的形成机理探讨 | 第34-35页 |
| ·反应条件对形成二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第35-39页 |
| ·氨水用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第35-36页 |
| ·水的用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第36-37页 |
| ·氨水加入时间对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第37页 |
| ·反应温度对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第37-38页 |
| ·乙醇用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第38页 |
| ·TEOS 的用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第38-39页 |
| ·动态光散射法监测纳米二氧化硅制备过程 | 第39-44页 |
| ·实验仪器和药品 | 第39页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·动态光散射监测纳米二氧化硅的粒径数据和图表分析 | 第40-43页 |
| ·动态光散射监测纳米二氧化硅的粒径数据 | 第40页 |
| ·动态光散射监测纳米二氧化硅的粒径图表分析 | 第40-43页 |
| ·粒径变化趋势表 | 第43-44页 |
| ·结论 | 第44页 |
| ·纳米二氧化硅粒子的表面改性研究 | 第44-48页 |
| ·实验部分 | 第46-47页 |
| ·油酸表面改性二氧化硅粒子 | 第46-47页 |
| ·表面改性二氧化硅粒子的表征 | 第47-48页 |
| ·扫描电子电镜 | 第47页 |
| ·热重分析 | 第47-48页 |
| ·结论 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第三章 磁性纳米四氧化三铁的制备与表征 | 第50-57页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-55页 |
| ·磁性纳米四氧化三铁粒子的制备 | 第51-52页 |
| ·磁性纳米四氧化三铁粒子的表征 | 第52-55页 |
| ·扫描电子电镜 | 第52-53页 |
| ·Fe_3O_4 的XRD | 第53页 |
| ·Fe_3O_4 粒径测量 | 第53-54页 |
| ·Fe_3O_4 的红外图谱 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第四章 二氧化硅与四氧化三铁纳米复合材料的合成研究 | 第57-66页 |
| ·引言 | 第57-60页 |
| ·磁性复合粒子 | 第57-58页 |
| ·磁性纳米Fe_3O_4/SiO_2 复合粒子 | 第58页 |
| ·磁性纳米粒子的制备方法 | 第58-59页 |
| ·磁性复合粒子的应用 | 第59-60页 |
| ·Fe_3O_4/SiO_2 磁性复合粒子的制备 | 第60-61页 |
| ·Fe_3O_4/SiO_2磁性复合粒子的表征 | 第61-64页 |
| ·透射电镜 | 第61-62页 |
| ·扫描电子电镜 | 第62-63页 |
| · Fe_3O_4/SiO_2复合粒子的X射线衍射(XRD)分析 | 第63页 |
| ·Fe_3O_4/SiO_2复合粒子的红外光谱(IR)分析 | 第63-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 中文摘要 | 第66-67页 |
| 英文摘要 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
