离子源辅助磁控溅射沉积SiO_x阻隔薄膜的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-5页 |
| 第一章 绪论 | 第5-14页 |
| ·高阻隔薄膜的发展趋势 | 第5-8页 |
| ·氧化硅薄膜的性能 | 第8-9页 |
| ·等离子体技术与分类 | 第9-11页 |
| ·SiO_2 阻隔薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| ·本课题研究的内容 | 第13-14页 |
| 第二章 薄膜生长及制备原理 | 第14-30页 |
| ·基材的选择 | 第14-16页 |
| ·薄膜生长机理 | 第16-19页 |
| ·电子束蒸镀原理 | 第19页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第19-23页 |
| ·离子源辅助 | 第23-30页 |
| 第三章 实验与检测 | 第30-39页 |
| ·电子束蒸镀SiO_x薄膜 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射沉积SiO_x薄膜 | 第31-34页 |
| ·薄膜厚度的检测及均匀性的评价 | 第34-35页 |
| ·薄膜结构的分析 | 第35-36页 |
| ·SiO_x薄膜表面分析 | 第36页 |
| ·SiO_x薄膜的成份分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜生长形态分析（XRD 分析） | 第37-38页 |
| ·透湿性测试原理 | 第38-39页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第39-64页 |
| ·薄膜均匀性测试 | 第39-44页 |
| ·薄膜的FTIR 结构分析 | 第44-45页 |
| ·X 射线衍射 | 第45-46页 |
| ·沉积膜阻隔性 | 第46-52页 |
| ·SEM 表面形貌分析 | 第52-57页 |
| ·离子源对镀膜的影响 | 第57-62页 |
| ·结论及展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士期间所发表的论文 | 第69-70页 |
| 独创性声明 | 第70页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第70页 |
