硅片自旋磨削试验台关键技术的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
1 绪论 | 第7-18页 |
1.1 论文的选题背景及来源 | 第7-8页 |
1.2 国内外研究现状 | 第8-16页 |
1.3 课题的意义及主要研究内容 | 第16-18页 |
2 硅片磨削试验台磨头机构研究 | 第18-27页 |
2.1 磨头主轴的结构设计 | 第18-20页 |
2.2 高速电主轴结构原理及选择 | 第20-23页 |
2.3 磨头电主轴倾角的调整 | 第23-26页 |
2.4 本章小节 | 第26-27页 |
3 主轴进给传动机构研究 | 第27-38页 |
3.1 主轴进给机构结构 | 第27-28页 |
3.2 伺服电机 | 第28-33页 |
3.3 谐波齿轮减速器 | 第33-35页 |
3.4 滚珠丝杠副 | 第35-36页 |
3.5 滚动导轨滑块副 | 第36-37页 |
3.6 进给速度计算 | 第37页 |
3.7 本章小节 | 第37-38页 |
4 旋转工作台研究 | 第38-49页 |
4.1 旋转工作台整体结构 | 第38-39页 |
4.2 硅片在线厚度测量系统 | 第39-43页 |
4.3 硅片的真空夹持系统 | 第43-47页 |
4.4 旋转工作台驱动电机 | 第47-48页 |
4.5 本章小节 | 第48-49页 |
5 磨削力测量系统研究 | 第49-73页 |
5.1 硅片磨削测力系统与原理 | 第49-55页 |
5.2 力的传递模型 | 第55-62页 |
5.3 方案设计 | 第62-63页 |
5.4 三向压电石英测力平台结构设计 | 第63-64页 |
5.5 测力平台的动、静态标定 | 第64-69页 |
5.6 动态磨削力测量软件系统 | 第69-72页 |
5.7 本章小节 | 第72-73页 |
6 总结与展望 | 第73-75页 |
6.1 本文工作总结 | 第73页 |
6.2 工作展望 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-77页 |
附录A 伺服电机周边设备及控制系统 | 第77-78页 |
附录B 硅片自旋转磨削试验台 | 第78-79页 |
附录C 夹持力实验装置及实验数据曲线 | 第79-80页 |
附录D 真空吸盘专利申请受理书 | 第80-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第83页 |