| 第一章 绪言 | 第1-19页 |
| ·介孔材料的定义 | 第8-9页 |
| ·有序介孔材料的合成及分类 | 第9-11页 |
| ·有序介孔材料的合成 | 第9-10页 |
| ·有序介孔材料的分类 | 第10-11页 |
| ·有序介孔材料的研究现状 | 第11-17页 |
| ·合成机理的研究进展 | 第11-14页 |
| ·有序介孔氧化硅的化学修饰 | 第14-17页 |
| ·非硅体系研究进展 | 第17页 |
| ·研究目的和内容 | 第17-19页 |
| 第二章 有机模板剂选择和MCM-41合成 | 第19-31页 |
| ·有机模板剂选择 | 第19-22页 |
| ·表面活性剂在溶液中的胶束化 | 第19-20页 |
| ·表面活性剂胶束的形状 | 第20-22页 |
| ·表面活性剂的分类 | 第22页 |
| ·有序介孔氧化硅MCM-41合成 | 第22-27页 |
| ·实验原料及反应组成 | 第22页 |
| ·合成工艺及步骤 | 第22-23页 |
| ·实验结果分析 | 第23-27页 |
| ·有序介孔氧化硅材料MCM-41材料的二次水热处理 | 第27-28页 |
| ·1，3，5-三甲苯对孔径的调节 | 第28-31页 |
| ·实验及结果讨论 | 第28-29页 |
| ·1，3，5-三甲苯影响MCM-41材料介孔结构的机理 | 第29-31页 |
| 第三章 锰离子对MCM-41结构的化学修饰及表征 | 第31-49页 |
| ·MCM-41无机骨架锰离子的部分替代 | 第31-40页 |
| ·实验原料 | 第31页 |
| ·以CTAB为模板剂锰掺杂MCM-41样品合成 | 第31-32页 |
| ·以0.1CTAB:xHDA为混合模板剂样品合成 | 第32-40页 |
| ·氧化锰团簇在有序介孔氧化硅纳米级孔道中组装 | 第40-49页 |
| ·样品合成 | 第41页 |
| ·样品表征 | 第41页 |
| ·结果讨论 | 第41-44页 |
| ·不同孔径MCM-41试样组装氧化锰团簇对光性能的影响 | 第44-49页 |
| 第四章 锰氧有序介孔相的合成研究 | 第49-55页 |
| ·锰氧有序相的合成 | 第49-50页 |
| ·实验原料与试剂 | 第49页 |
| ·样品合成 | 第49-50页 |
| ·不同碱量对合成锰氧有序结构的影响 | 第50-53页 |
| ·模板剂的选择对合成产物的影响 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 硕士论文期间已发表或已接收的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
