蓝宝石衬底上SiO2薄膜的制备工艺与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·研究背景 | 第10-13页 |
| ·氧化硅薄膜的制备方法 | 第13-14页 |
| ·薄膜的生长过程与薄膜结构 | 第14页 |
| ·氧化硅薄膜的表面形貌 | 第14-15页 |
| ·氧化硅薄膜的性能 | 第15-19页 |
| ·折射率 | 第15-16页 |
| ·热膨胀系数 | 第16-17页 |
| ·红外增透性 | 第17-18页 |
| ·化学稳定性 | 第18页 |
| ·力学保护性 | 第18-19页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 膜系设计与分析 | 第20-34页 |
| ·膜系设计的基本理论 | 第20-25页 |
| ·膜系设计的一般原理 | 第21-22页 |
| ·膜系评价函数 | 第22-23页 |
| ·最优化方法 | 第23-24页 |
| ·增透保护膜系设计 | 第24-25页 |
| ·膜系设计的实现 | 第25-26页 |
| ·膜系设计的结果 | 第26-31页 |
| ·膜系结构评价 | 第31-33页 |
| ·膜系敏感因子分析 | 第31-32页 |
| ·膜系结构偏差分析 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 工艺实验方法及内容 | 第34-49页 |
| ·射频磁控反应溅射镀膜的基本原理 | 第34-39页 |
| ·溅射镀膜 | 第34-36页 |
| ·射频溅射 | 第36页 |
| ·磁控溅射 | 第36-38页 |
| ·反应溅射 | 第38-39页 |
| ·试验装置 | 第39-40页 |
| ·工艺参数的选择 | 第40-43页 |
| ·基本工艺参数 | 第40-42页 |
| ·工艺参数的选择 | 第42-43页 |
| ·工艺流程 | 第43页 |
| ·薄膜的分析检测 | 第43-48页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第43-45页 |
| ·薄膜折射率的测定 | 第45页 |
| ·红外光学性能的测量 | 第45-47页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第47页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第49-67页 |
| ·SiO_2薄膜形成的工艺条件 | 第49页 |
| ·工艺参数对沉积速率的影响规律 | 第49-56页 |
| ·射频功率对薄膜沉积速率的影响 | 第49-50页 |
| ·气体流量对薄膜沉积速率的影响 | 第50-53页 |
| ·衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第53-54页 |
| ·靶基距对薄膜沉积速率的影响 | 第54-56页 |
| ·溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第56页 |
| ·SiO_2薄膜的成分分析 | 第56-59页 |
| ·SiO_2薄膜的结构分析 | 第59-60页 |
| ·薄膜的折射率 | 第60-61页 |
| ·薄膜的高温退火处理 | 第61页 |
| ·薄膜的红外光学性能 | 第61-63页 |
| ·工艺参数对膜质量的影响 | 第63-64页 |
| ·蓝宝石头罩镀膜 | 第64-65页 |
| ·今后工作设想 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所获得的奖励 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
