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硅基微波共平面波导传输特性及其在微波移相器中的应用研究

第一章 绪论第1-23页
 1 硅材料在微波领域的应用第10-11页
 2 微电子机械技术第11-14页
   ·MEMS的基础理论第11-13页
   ·MEMS的材料与加工技术第13-14页
 3 射频/微波MEMS技术第14-18页
   ·射频/微波MEMS器件参数第14-15页
   ·射频/微波MEMS元件第15-17页
   ·典型组件与系统第17页
   ·元件设计及制造方法第17-18页
 4 本文构成第18-19页
 5 小结第19-20页
 参考文献第20-23页
第二章 微波传输线理论基础第23-38页
 1 传输线的基本概念第23-28页
   ·传输线种类及应用第23-24页
   ·分布参数概念第24-25页
   ·特性阻抗和传输常数第25-26页
   ·传输线的阻抗匹配第26-28页
 2 共平面波导的结构和传输参数第28-32页
   ·共平面波导结构第28-29页
   ·共平面波导的特性阻抗和相速第29-31页
   ·共平面波导的损耗第31-32页
 3 共平面波导的传统制作第32-33页
 4 微波网络基础第33-36页
 5 小结第36-37页
 参考文献:第37-38页
第三章 硅基MEMS微波传输线第38-46页
 1 硅基矩形波导第38-39页
 2 V型槽MEMS共平面波导第39-41页
 3 W型槽MEMS共平面波导第41-42页
 4 IOCPW第42-43页
 5 小结第43-44页
 参考文献第44-46页
第四章 微波V型槽MEMS共平面波导第46-72页
 1 引言第46页
 2 特性阻抗的混合相似剖分有限元法分析第46-56页
   ·有限元法简介第46-48页
   ·相似剖分有限元法第48页
   ·混合相似剖分有限元方法第48-52页
   ·计算实例比较第52-53页
   ·数值分析结果第53-56页
 3 工艺流程与参数优化第56-58页
   ·工艺流程第56页
   ·混合腐蚀工艺第56-58页
   ·背面刻蚀技术第58页
 4 制备过程中的应力释放第58-63页
   ·应力的基本概念第58-59页
   ·微结构中应力的产生与测量第59-61页
   ·微机械共平面波导中应力第61-63页
 5 散射参数的多线分析法第63-65页
   ·多线分析基本原理第63-64页
   ·测量结果分析第64-65页
 6 测试结果与分析第65-67页
 7 小结第67-69页
 参考文献:第69-72页
第五章 硅基微波共平面波导第72-91页
 1 引言第72-73页
 2 高阻硅基共平面波导第73-82页
   ·高阻硅基共平面波导结构第73-74页
   ·制备工艺流程第74-75页
   ·氧化层电荷对传输损耗的影响第75-77页
   ·测试结果与分析第77-82页
 3 低阻硅基聚酰亚胺厚膜上的共平面波导第82-89页
   ·共平面波导的设计考虑第82-84页
   ·共平面波导制备第84-85页
   ·参数测试与比较第85-89页
 4 小结第89-90页
 参考文献第90-91页
第六章 高阻硅基级联式MEMS移相器第91-117页
 1 相移原理概述第91-94页
   ·传统相移的实现第91-92页
   ·集成二极管数字式移相器第92-93页
   ·移相器在相控阵中的应用第93-94页
 2 MEMS移相器第94-97页
   ·MEMS移相器设计第94-96页
   ·单元移相结构的工作原理第96-97页
 3 结构参数设计第97-106页
   ·可调电容第97-99页
   ·下拉电压第99-101页
   ·Bragg频率分析第101-106页
 4 制备工艺探讨第106-108页
   ·工艺流程第106-107页
   ·工艺探讨第107-108页
 5 参数测试与分析第108-114页
   ·实验获得样品第108-111页
   ·测试结果与分析第111-113页
   ·MEMS结构寿命实验第113-114页
 6 小结第114-115页
 参考文献:第115-117页
结论第117-119页
致谢第119-120页
读博期间发表文章第120页

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