前言 | 第1-10页 |
第一章 印染废水处理现状及发展趋势 | 第10-13页 |
1.1 印染废水处理技术的现状 | 第10页 |
1.2 印染废水的处理方法 | 第10-13页 |
1.2.1 印染废水的物理处理方法 | 第11页 |
1.2.2 印染废水的化学处理方法 | 第11页 |
1.2.3 印染废水的生物处理方法 | 第11-13页 |
第二章 光催化降解有机污染物概述 | 第13-18页 |
2.1 光催化氧化反应的机理 | 第13-14页 |
2.2 有机污染物的氧化降解机理 | 第14页 |
2.3 光催化反应发生的位置 | 第14-15页 |
2.4 半导体颗粒的研究状况 | 第15-18页 |
第三章 半导体光催化法的研究进展 | 第18-31页 |
3.1 光催化反应器的类型及研究进展 | 第18-22页 |
3.1.1 光催化反应器的类型 | 第18-21页 |
3.1.2 光催化反应器的研究展望 | 第21-22页 |
3.2 半导体光催化剂的研究进展 | 第22-31页 |
3.2.1 半导体光催化剂的改性技术 | 第22-25页 |
3.2.2 悬浮态光催化剂的研究进展 | 第25-26页 |
3.2.3 固定相光催化剂的研究进展 | 第26-29页 |
3.2.4 光催化氧化法今后的研究方向 | 第29-31页 |
第四章 研究内容和方法 | 第31-37页 |
4.1 研究目的和内容 | 第31-32页 |
4.1.1 研究目的 | 第31页 |
4.1.2 研究内容 | 第31-32页 |
4.2 染料的选择及分析方法 | 第32-33页 |
4.3 试剂、仪器与装置 | 第33-37页 |
第五章 悬浮态TiO_2光降解的研究 | 第37-48页 |
5.1 染料最大吸收波长的测定 | 第37-38页 |
5.2 制作标准曲线 | 第38-39页 |
5.3 影响染料降解因素的研究 | 第39-48页 |
5.3.1 染料初始浓度对降解率的影响 | 第39-41页 |
5.3.2 TiO_2用量对降解率的影响 | 第41-42页 |
5.3.3 不同光照时间对光催化降解率的影响 | 第42-43页 |
5.3.4 不同液层厚度对光催化降解率的影响 | 第43-44页 |
5.3.5 pH值对光催化降解率的影响 | 第44-46页 |
5.3.6 不同转速对光催化降解率的影响 | 第46-47页 |
5.3.7 温度对光催化降解的影响 | 第47页 |
5.3.8 小结 | 第47-48页 |
第六章 固定TiO_2光降解的研究 | 第48-61页 |
6.1 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第48-50页 |
6.2 交联粘土法 | 第50-52页 |
6.3 羧甲基纤维素钠(CMC-Na)膜 | 第52-54页 |
6.4 环氧树脂胶粘剂膜 | 第54-61页 |
第七章 提高固定态TiO_2降解效率的研究 | 第61-64页 |
7.1 固定态TiO_2与悬浮态TiO_2的对比研究 | 第61-62页 |
7.2 通空气对固定态TiO_2降解效率的影响 | 第62-64页 |
第八章 结论与建议 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
致谢 | 第74页 |