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半导体光催化氧化法处理废水的应用基础研究

前言第1-10页
第一章 印染废水处理现状及发展趋势第10-13页
 1.1 印染废水处理技术的现状第10页
 1.2 印染废水的处理方法第10-13页
  1.2.1 印染废水的物理处理方法第11页
  1.2.2 印染废水的化学处理方法第11页
  1.2.3 印染废水的生物处理方法第11-13页
第二章 光催化降解有机污染物概述第13-18页
 2.1 光催化氧化反应的机理第13-14页
 2.2 有机污染物的氧化降解机理第14页
 2.3 光催化反应发生的位置第14-15页
 2.4 半导体颗粒的研究状况第15-18页
第三章 半导体光催化法的研究进展第18-31页
 3.1 光催化反应器的类型及研究进展第18-22页
  3.1.1 光催化反应器的类型第18-21页
  3.1.2 光催化反应器的研究展望第21-22页
 3.2 半导体光催化剂的研究进展第22-31页
  3.2.1 半导体光催化剂的改性技术第22-25页
  3.2.2 悬浮态光催化剂的研究进展第25-26页
  3.2.3 固定相光催化剂的研究进展第26-29页
  3.2.4 光催化氧化法今后的研究方向第29-31页
第四章 研究内容和方法第31-37页
 4.1 研究目的和内容第31-32页
  4.1.1 研究目的第31页
  4.1.2 研究内容第31-32页
 4.2 染料的选择及分析方法第32-33页
 4.3 试剂、仪器与装置第33-37页
第五章 悬浮态TiO_2光降解的研究第37-48页
 5.1 染料最大吸收波长的测定第37-38页
 5.2 制作标准曲线第38-39页
 5.3 影响染料降解因素的研究第39-48页
  5.3.1 染料初始浓度对降解率的影响第39-41页
  5.3.2 TiO_2用量对降解率的影响第41-42页
  5.3.3 不同光照时间对光催化降解率的影响第42-43页
  5.3.4 不同液层厚度对光催化降解率的影响第43-44页
  5.3.5 pH值对光催化降解率的影响第44-46页
  5.3.6 不同转速对光催化降解率的影响第46-47页
  5.3.7 温度对光催化降解的影响第47页
  5.3.8 小结第47-48页
第六章 固定TiO_2光降解的研究第48-61页
 6.1 溶胶-凝胶法(sol-gel)第48-50页
 6.2 交联粘土法第50-52页
 6.3 羧甲基纤维素钠(CMC-Na)膜第52-54页
 6.4 环氧树脂胶粘剂膜第54-61页
第七章 提高固定态TiO_2降解效率的研究第61-64页
 7.1 固定态TiO_2与悬浮态TiO_2的对比研究第61-62页
 7.2 通空气对固定态TiO_2降解效率的影响第62-64页
第八章 结论与建议第64-66页
参考文献第66-74页
致谢第74页

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