| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-31页 |
| ·涂层导体 | 第14-15页 |
| ·涂层导体的结构与各子结构的功能 | 第15-17页 |
| ·各子结构材料选择要求和制备工艺 | 第17-29页 |
| ·基带 | 第17-22页 |
| ·基带材料 | 第17-18页 |
| ·制备技术 | 第18-21页 |
| ·基带特性 | 第21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| ·缓冲层 | 第22-27页 |
| ·缓冲层材料及其要求 | 第22-23页 |
| ·制备技术 | 第23-27页 |
| ·小结 | 第27页 |
| ·YBCO层 | 第27-29页 |
| ·TFA-MOD技术 | 第27-28页 |
| ·其它工艺技术 | 第28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| ·论文的研究目的和主要研究内容 | 第29-31页 |
| ·Cu-Ni双金属层基带 | 第29页 |
| ·化学溶液沉积技术制备La_2Zr_2O_7缓冲层 | 第29-31页 |
| ·金属基带的表面改性 | 第29-30页 |
| ·化学溶液沉积技术制备La_2Zr_2O_7缓冲层 | 第30-31页 |
| 第二章 立方织构Cu基带 | 第31-50页 |
| ·前言 | 第31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-49页 |
| ·轧制过程 | 第32-42页 |
| ·加工率对立方织构形成的影响 | 第32-36页 |
| ·轧态样品织构不均匀性 | 第36-38页 |
| ·道次加工率的影响 | 第38-41页 |
| ·轧制方向对Cu带立方织构的影响 | 第41-42页 |
| ·再结晶处理过程 | 第42-46页 |
| ·轧前热处理对Cu带立方织构的影响 | 第42-43页 |
| ·再结晶温度对Cu带立方织构的影响 | 第43-46页 |
| ·再结晶处理时间对Cu带立方织构的影响 | 第46页 |
| ·Cu带立方织构的均匀性 | 第46-47页 |
| ·Cu带表面抛光技术 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第三章 电化学沉积立方织构Ni层 | 第50-67页 |
| ·前言 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-66页 |
| ·电化学过程对Ni层织构的影响 | 第51-62页 |
| ·阴极电位对Ni层织构的影响 | 第52-57页 |
| ·镀液pH值对Ni层织构的影响 | 第57-59页 |
| ·电沉积温度对Ni层织构的影响 | 第59-60页 |
| ·Cu基带表面特征对Ni层织构的影响 | 第60-62页 |
| ·Cu-Ni双金属层基带立方织构热稳定性以及磁性能 | 第62-64页 |
| ·热处理对Cu-Ni双金属层基带立方织构的影响 | 第62-63页 |
| ·Cu-Ni双金属层基带的磁性能 | 第63-64页 |
| ·在Cu-Ni双金属层基带上制备La_2Zr_2O_7缓冲层 | 第64-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第四章 采用化学溶液沉积技术在康铜合金表面制备La_2Zr_2O_7膜 | 第67-86页 |
| ·前言 | 第67页 |
| ·实验过程 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-85页 |
| ·前驱溶液制备 | 第68-75页 |
| ·溶剂选择 | 第68-69页 |
| ·溶液体系热分解行为 | 第69-72页 |
| ·溶液体系成相行为研究 | 第72-75页 |
| ·康铜合金表面制备LZO膜的工艺研究 | 第75-85页 |
| ·热处理温度对LZO膜形成的影响 | 第75-77页 |
| ·溶液浓度对LZO膜织构的影响 | 第77-79页 |
| ·热处理时间对LZO膜织构的影响 | 第79-82页 |
| ·热处理升温速度对LZO膜织构的影响 | 第82-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 第五章 金属基带表面硫化改性处理 | 第86-103页 |
| ·前言 | 第86页 |
| ·实验设计思路 | 第86-87页 |
| ·实验过程 | 第87-88页 |
| ·结果与讨论 | 第88-102页 |
| ·硫化处理制度Ⅰ | 第88-94页 |
| ·康铜合金基带 | 第89-92页 |
| ·Ni-5at%W合金基带 | 第92-94页 |
| ·硫化处理制度Ⅱ | 第94-99页 |
| ·康铜合金基带 | 第94-95页 |
| ·Ni-5at%W合金基带 | 第95-99页 |
| ·c(2×2)超结构对LZO膜织构的影响 | 第99-102页 |
| ·小结 | 第102-103页 |
| 第六章 改善LZO膜的外延生长 | 第103-127页 |
| ·前言 | 第103页 |
| ·实验过程 | 第103-104页 |
| ·结果与讨论 | 第104-125页 |
| ·对LZO前驱膜分解过程产生气体的相关热力学分析 | 第104-106页 |
| ·LZO膜外延生长条件控制 | 第106-117页 |
| ·载流气体流速对LZO膜生长的影响 | 第107-112页 |
| ·提高热处理过程氧分压对LZO膜生长的影响 | 第112-116页 |
| ·热处理过程系统总压对LZO膜生长的影响 | 第116-117页 |
| ·积碳对LZO膜外延生长的影响 | 第117-118页 |
| ·LZO膜的特性研究 | 第118-124页 |
| ·LZO膜的晶体结构 | 第118-120页 |
| ·LZO膜的织构锐利度、表面特性分析 | 第120-124页 |
| ·化学溶液沉积技术制备CeO_2层 | 第124-125页 |
| ·小结 | 第125-127页 |
| 第七章 结论与展望 | 第127-131页 |
| 参考文献 | 第131-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第145页 |
