| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO纳米线阵列的制备方法及生长机制 | 第12-15页 |
| ·液相法 | 第12-13页 |
| ·气相法 | 第13-15页 |
| ·模板法 | 第15页 |
| ·离子注入技术 | 第15-16页 |
| ·论文研究的目的和主要研究工作 | 第16-18页 |
| 第2章 实验方法及测试技术 | 第18-26页 |
| ·ZnO纳米线阵列的制备 | 第18-19页 |
| ·离子注入法掺杂ZnO纳米线阵列 | 第19-22页 |
| ·MEVVA离子注入系统 | 第19-20页 |
| ·离子注入的射程分布理论 | 第20-21页 |
| ·离子注入工艺流程 | 第21-22页 |
| ·样品的热处理 | 第22页 |
| ·测试技术及基本原理 | 第22-26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第24页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第24-26页 |
| 第3章 ZnO纳米线阵列的结构和发光性质 | 第26-38页 |
| ·生长参数对ZnO纳米线阵列表面形貌的影响 | 第26-32页 |
| ·反应源温度对ZnO纳米线阵列形貌的影响 | 第27-29页 |
| ·载气流量对ZnO纳米线阵列形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·改进反应室结构对ZnO纳米线阵列形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·ZnO纳米线阵列的X射线衍射结果与分析 | 第32-34页 |
| ·ZnO纳米线阵列的发光性质 | 第34-38页 |
| 第4章 Ag离子注入ZnO纳米线阵列的结构及发光性质 | 第38-45页 |
| ·TRIM程序对离子注入过程的模拟 | 第38-39页 |
| ·Ag离子注入及退火对ZnO纳米线阵列结构的影响 | 第39-43页 |
| ·Ag离子注入ZnO纳米线阵列的发光性质 | 第43-45页 |
| 第5章 结论与展望 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| ·展望 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第53页 |