磁控溅射氧化钒薄膜制备工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| ·VO_2 的基本性质 | 第10-13页 |
| ·钒-氧化合物及其性质 | 第10-11页 |
| ·VO_2 相变过程中晶体结构的变化 | 第11-13页 |
| ·VO_2 相变过程中能带结构的变化 | 第13页 |
| ·VO_2 的性能及应用 | 第13-16页 |
| ·VO_2 的性能 | 第13-15页 |
| ·VO_2 薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·VO_2 薄膜的制备技术 | 第16-20页 |
| ·VO_2 薄膜的主要制备方法 | 第16-19页 |
| ·溅射法制备VO_2 薄膜的优势 | 第19-20页 |
| ·本论文的目的、意义、主要内容及创新点 | 第20-23页 |
| ·本论文的目的 | 第20页 |
| ·本论文的意义 | 第20-21页 |
| ·本论文的主要内容 | 第21-22页 |
| ·本论文的创新点 | 第22-23页 |
| 2 实验设备 | 第23-29页 |
| ·镀膜设备及材料 | 第23-24页 |
| ·镀膜设备 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·热处理设备 | 第24-27页 |
| ·真空热处理设备 | 第24-25页 |
| ·自行设计热处理设备 | 第25-27页 |
| ·检测设备 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 磁控溅射氧化钒薄膜的制备 | 第29-49页 |
| ·射频磁控溅射镀膜原理 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射的工作原理 | 第29页 |
| ·磁控溅射镀膜原理及特征 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射镀膜工艺及方案 | 第30-32页 |
| ·磁控溅射镀膜工艺流程 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射镀膜实验方案 | 第31-32页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第32-45页 |
| ·磁控溅射薄膜成分分析 | 第32-40页 |
| ·氧分压对磁控溅射薄膜制备的影响 | 第40-42页 |
| ·溅射功率和工作气压对薄膜制备的影响 | 第42-45页 |
| ·后续热处理样的制备 | 第45-47页 |
| ·V_2O_5 薄膜样的制备 | 第45-46页 |
| ·V_2O_5 薄膜表面形貌观察 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射薄膜生长模型 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 4 五氧化二钒薄膜的真空热处理 | 第49-74页 |
| ·V_2O_5 到VO_2 转化的热力学基础 | 第49-52页 |
| ·标准状态下转化的热力学基础 | 第49-50页 |
| ·非标准状态下转化的热力学基础 | 第50-52页 |
| ·薄膜真空热处理工艺流程 | 第52-53页 |
| ·真空室中薄膜热处理 | 第53-54页 |
| ·热处理后薄膜成分变化 | 第53页 |
| ·热处理后薄膜颜色变化 | 第53-54页 |
| ·保护气氛下薄膜热处理 | 第54-71页 |
| ·保护气氛下热处理实验方案 | 第54-55页 |
| ·热处理温度对薄膜的影响 | 第55-65页 |
| ·热处理时间对薄膜的影响 | 第65-71页 |
| ·薄膜热处理生长模型 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 5 结论及展望 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第74-75页 |
| ·展望 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果 | 第82页 |
