| 目录 | 第1-8页 |
| CONTENTS | 第8-12页 |
| 中文摘要 | 第12-15页 |
| ABSTRACT | 第15-19页 |
| 第一章 引言 | 第19-39页 |
| ·光子晶体的概念 | 第19页 |
| ·光子晶体的分类和性质 | 第19-21页 |
| ·光子晶体的分类 | 第19-20页 |
| ·光子晶体的性质 | 第20-21页 |
| ·光子晶体的基本理论和研究方法 | 第21-22页 |
| ·光子晶体的应用 | 第22-24页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第24-30页 |
| ·精密机械加工技术 | 第25页 |
| ·传统光纤制造光子晶体纤维 | 第25-26页 |
| ·胶体颗粒自排或外力强迫排法 | 第26页 |
| ·反蛋白石结构 | 第26-27页 |
| ·逐层叠加(Layer-by-Layer)方法 | 第27-28页 |
| ·光蚀刻技术 | 第28页 |
| ·电子束微影法 | 第28-29页 |
| ·单光子或双光子吸收光聚合技术 | 第29页 |
| ·激光全息法微制作技术 | 第29-30页 |
| ·光子晶体近年来的发展概述及本文主要内容 | 第30-32页 |
| 第一章参考文献 | 第32-39页 |
| 第二章 全息干涉法制备光子晶体的光束设计与图样分析 | 第39-53页 |
| ·一维光子晶体的全息干涉制备——双光束干涉的图样和衬比度分析 | 第40-41页 |
| ·二维光子晶体的全息干涉制备 | 第41-47页 |
| ·非共面三束光干涉的图样分析 | 第41-43页 |
| ·利用衍射光分束器产生的三束伞状相干光干涉形成的三角结构图样 | 第43-45页 |
| ·利用衍射分束器产生伞状对称四光束干涉形成正方结构图样 | 第45-47页 |
| ·三维光子晶体的全息干涉制备 | 第47-50页 |
| ·非共面四光束干涉的图样分析 | 第47-48页 |
| ·利用衍射光分束器产生的四束非共面伞状相干光干涉形成的图样分析 | 第48-50页 |
| ·本章小节 | 第50-51页 |
| 第二章参考文献 | 第51-53页 |
| 第三章 全息干涉法制备光子晶体及引入缺陷的实验研究 | 第53-70页 |
| ·全息法实验制备光子晶体 | 第54-60页 |
| ·实验使用样品的配置,曝光和处理 | 第54-56页 |
| ·实验光路图 | 第56-57页 |
| ·实验结果 | 第57-60页 |
| ·单双光子结合法在光子晶体中引入缺陷 | 第60-66页 |
| ·双光子聚合法简介 | 第60-61页 |
| ·实验使用药品的配置,曝光和处理 | 第61-62页 |
| ·全息法和双光子聚合法的光路设计 | 第62-64页 |
| ·实验结果 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第三章参考文献 | 第67-70页 |
| 第四章 二维全息法制备的光子晶体能带特性研究 | 第70-86页 |
| ·二维全息光子晶体的TE和TM带隙特性分析 | 第71-76页 |
| ·通过两次曝光来增大光子晶体的完全带隙 | 第76-82页 |
| ·两次曝光的光路设计和光束的偏振设置 | 第76-77页 |
| ·两次曝光后光子晶体格点的形状 | 第77-80页 |
| ·一次曝光和两次曝光制备的光子晶体的能带图和带隙比较 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第四章参考文献 | 第83-86页 |
| 第五章 全息光子晶体内的传输性质—负折射和超透镜现象 | 第86-111页 |
| ·光子晶体内的异常色散现象介绍 | 第87-94页 |
| ·负折射现象的产生原理 | 第87-90页 |
| ·光子晶体中的负折射现象 | 第90-91页 |
| ·光子晶体中的超透镜及超棱镜现象 | 第91-94页 |
| ·二维全息光子晶体内的负折射现象 | 第94-101页 |
| ·全息光子晶体和规则光子晶体的结构 | 第94-95页 |
| ·通过等频率线图分析光子晶体内的负折射现象 | 第95-98页 |
| ·FDTD模拟验证光子晶体内的负折射现象 | 第98-101页 |
| ·二维全息光子晶体内的超透镜现象 | 第101-107页 |
| ·全息光子晶体与规则形状光子晶体等频率曲线分布 | 第101-103页 |
| ·通过等频率线图分析光子晶体内的超透镜现象 | 第103-104页 |
| ·FDTD模拟验证光子晶体内的超透镜现象 | 第104-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第五章参考文献 | 第108-111页 |
| 第六章 二维光子晶体薄板内缺陷腔的性质和品质因子计算 | 第111-130页 |
| ·光子晶体薄板缺陷腔简介 | 第112-115页 |
| ·光子晶体微腔的制备和性质 | 第112-113页 |
| ·光子晶体缺陷腔的优点和用途 | 第113-115页 |
| ·二维光子晶体薄板(Photonic Crystal slab)的能带分析 | 第115-121页 |
| ·有限厚度的二维光子晶体的带隙性质分析 | 第115-117页 |
| ·引入缺陷的二维光子晶体薄板的带隙计算 | 第117-121页 |
| ·使用时域差分方法(FDTD)计算光子晶体缺陷腔的品质因子 | 第121-127页 |
| ·光子晶体缺陷腔品质因子的计算公式 | 第121-122页 |
| ·使用FDTD方法计算光子晶体的Q因子 | 第122-125页 |
| ·通过设计缺陷腔的结构来提高Q因子 | 第125-127页 |
| ·本章小结 | 第127-128页 |
| 第六章参考文献 | 第128-130页 |
| 全文总结 | 第130-134页 |
| 致谢 | 第134-136页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文、参加的科研项目及获得的奖励 | 第136-140页 |
| 附录:已发表的外文论文两篇 | 第140-153页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第153页 |
