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高压下卤仿晶体结构、电子结构及光学性质的第一性原理研究

内容提要第1-6页
中文摘要第6-12页
Abstract第12-22页
第一章 绪论第22-51页
   ·高压物理学简介第22-27页
     ·高压现象与高压效应第22-24页
     ·高压试验研究第24-25页
     ·高压物理的计算机模拟研究第25-27页
   ·高压下的氢键和卤键第27-34页
     ·氢键的特征第27-30页
     ·卤键的特性第30-34页
   ·卤仿的研究现状第34-42页
     ·常温常压下卤仿的一些性质第34-35页
     ·对溴仿的研究现状第35-38页
     ·对碘仿的研究现状第38-41页
     ·对氯仿的研究现状第41-42页
   ·研究内容和选题意义第42-44页
 参考文献第44-51页
第二章 理论基础第51-85页
   ·密度泛函理论中的近似方法第51-54页
     ·Born-Oppenheimer Approximation第51-52页
     ·Hartree-Fock 单电子近似第52-54页
   ·密度泛函理论及关联函数第54-61页
     ·Thomas-Fermi 模型第54-56页
     ·Hohenberg-Kohn 定理第56-57页
     ·Kohn-Sham 近似第57-58页
     ·关联能泛函表达形式第58-61页
   ·拉曼光谱原理概述第61-65页
     ·晶格振动的简单描述第61-63页
     ·原理概述第63-65页
     ·高压拉曼光谱实验第65页
   ·光学常数的色散理论第65-70页
     ·基本光学常数和介电常数第65-67页
     ·介电函数的色散理论第67-70页
   ·分子晶体基本晶格振动模的对称性分析方法第70-83页
     ·分子晶体的基本特征第70-72页
     ·位置对称性分析方法第72-78页
     ·举例第78-83页
 参考文献第83-85页
第三章 计算方法第85-100页
   ·基于密度泛函理论的第一性原理计算方法简介第85-90页
     ·计算方法的基本流程第85-86页
     ·构造平面波基矢第86-87页
     ·布里渊区的特殊k 点取样规则第87-90页
   ·Forcite 模拟退火方法第90-98页
     ·基本特点第90-92页
     ·控制温度的方法第92-95页
     ·Forcite 力场的简单介绍第95-96页
     ·非成键相互作用的截断方法第96-98页
 参考文献第98-100页
第四章 高压下溴仿晶体的电子结构及结构相变的第一性原理研究第100-121页
   ·引言第100-103页
   ·计算方法与细节第103-104页
   ·新的结构及其稳定性第104-113页
   ·电子性质第113-116页
   ·本章小结第116-117页
 参考文献第117-121页
第五章 高压下碘仿晶体的结构、电子及光学性质的第121-140页
   ·引言第121-122页
   ·计算方法与细节第122-124页
   ·新的结构及其稳定性第124-130页
   ·电子结构第130-132页
   ·光学性质第132-135页
   ·本章小结第135-136页
 参考文献第136-140页
攻读博士学位期间发表的学术论文及其他成果第140-142页
致谢第142-143页

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