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可见光响应的半导体光催化剂的制备及其降解有机污染物的性能和机理研究

摘要第9-11页
Abstract第11-13页
第1章 绪论第14-38页
    1.1 引言第14-15页
    1.2 半导体光催化技术的原理第15-16页
    1.3 半导体光催化剂催化活性的主要影响因素第16-19页
        1.3.1 半导体固有性质第16-18页
        1.3.2 反应体系外部条件第18-19页
    1.4 半导体光催化材料现存的关键科学问题以及研究现状第19-32页
        1.4.1 可见光响应的改性TiO_2半导体的研究进展第20-21页
        1.4.2 新型可见光响应的半导体光催化剂的研究进展第21-32页
    1.5 可见光响应的半导体光催化技术在环境领域的应用第32-35页
        1.5.1 污水处理第32-33页
        1.5.2 空气净化第33页
        1.5.3 杀菌消毒第33-34页
        1.5.4 光解水制氢第34页
        1.5.5 光合成(CO_2还原)第34-35页
    1.6 论文研究意义与内容第35-38页
        1.6.1 研究意义第35页
        1.6.2 研究内容第35-36页
        1.6.3 技术路线第36-38页
第2章 实验材料与分析第38-42页
    2.1 实验材料第38-39页
    2.2 实验仪器第39-40页
        2.2.1 主要实验仪器设备第39-40页
    2.3 实验分析第40-42页
        2.3.1 样品表征及测定第40-41页
        2.3.2 污染物测定方法第41-42页
第3章 GQDs-Ag_3PO_4复合材料的合成及其对有机物的降解性能的研究第42-60页
    3.1 引言第42-43页
    3.2 实验方法与装置第43-45页
        3.2.1 GQDs-Ag_3PO_4复合物的制备方法第43-44页
        3.2.2 光催化测试实验第44-45页
    3.3 结果与讨论第45-58页
        3.3.1 样品的表征与分析第45-48页
        3.3.2 紫外-可见漫反射吸收光谱第48-49页
        3.3.3 比表面积分析第49-50页
        3.3.4 光催化性能测试第50-56页
        3.3.5 光催化稳定性测试第56页
        3.3.6 GQDs-Ag_3PO_4复合物光催化反应降解的机理第56-58页
    3.4 本章小结第58-60页
第4章 Ag_2MoO_4-WO_3异质结的合成及其对有机物的降解性能的研究第60-76页
    4.1 引言第60-61页
    4.2 实验方法与装置第61-63页
        4.2.1 样品的制备方法第61页
        4.2.2 光催化测试实验第61-63页
    4.3 实验结果与讨论第63-73页
        4.3.1 样品表征与分析第63-65页
        4.3.2 紫外-可见漫反射吸收光谱第65-66页
        4.3.3 BET比表面积及孔径分析第66-67页
        4.3.4 光催化性能测试第67-69页
        4.3.5 光电流测试第69-70页
        4.3.6 光催化稳定性测试第70-71页
        4.3.7 Ag_2MoO_4-WO_3异质结光催化降解机理第71-73页
    4.4 本章小结第73-76页
第5章 总结与展望第76-80页
    5.1 结论第76-77页
    5.2 展望第77-80页
参考文献第80-90页
硕士期间所取得的科研成果第90-92页
致谢第92-93页

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