| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 分子电子学简述 | 第10-11页 |
| 1.2 单分子电学测量技术 | 第11-17页 |
| 1.2.1 金属/分子/金属结的构筑 | 第12-13页 |
| 1.2.2 机械可控裂结技术 | 第13-14页 |
| 1.2.3 扫描隧道裂结技术 | 第14-16页 |
| 1.2.4 原子力裂结技术 | 第16-17页 |
| 1.3 单分子水平电输运机理 | 第17-21页 |
| 1.3.1 金属量子电导现象 | 第17-19页 |
| 1.3.2 金属/分子/金属结的电输运 | 第19-21页 |
| 1.4 金属/分子/金属结的电学性质表征方法 | 第21-24页 |
| 1.4.1 一维电导统计 | 第21-23页 |
| 1.4.2 二维电导-距离统计及台阶长度统计 | 第23-24页 |
| 1.5 课题研究现状 | 第24-29页 |
| 1.5.1 量子干涉效应研究现状 | 第24-27页 |
| 1.5.2 奥甘菊分子体系研究进展 | 第27-28页 |
| 1.5.3 单分子尺度弱相互作用研究进展 | 第28-29页 |
| 1.6 本论文的研究目的与意义 | 第29-30页 |
| 第二章 实验 | 第30-36页 |
| 2.1 实验主要试剂 | 第30页 |
| 2.2 实验主要仪器 | 第30-31页 |
| 2.3 机械可控裂结技术 | 第31-36页 |
| 2.3.1 机械可控裂结技术装置 | 第31-32页 |
| 2.3.2 机械可控裂结技术实验过程 | 第32-33页 |
| 2.3.3 机械可控裂结技术原理 | 第33-36页 |
| 第三章 奥甘菊分子量子干涉效应研究 | 第36-60页 |
| 3.1 量子干涉效应的连接位点调控 | 第37-43页 |
| 3.2 量子干涉效应的质子化调控 | 第43-56页 |
| 3.2.1 质子化电导测试 | 第43-48页 |
| 3.2.2 对照实验 | 第48-52页 |
| 3.2.3 理论计算 | 第52-54页 |
| 3.2.4 紫外可见光谱表征 | 第54-56页 |
| 3.3 单分子电学测量技术在动态检测中的应用 | 第56-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 基于π-π堆积相互作用的超分子组装体电输运研究 | 第60-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |