| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-39页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 表面等离激元的概述 | 第14-28页 |
| 1.2.1 金属中自由电子受外界电场作用的理论模型 | 第14-15页 |
| 1.2.2 表面等离极化激元(Surfaceplasmonpolaritons,SPP) | 第15-20页 |
| 1.2.3 局域表面等离激元(Localizedsurfaceplasmons,LSP) | 第20-23页 |
| 1.2.4 表面等离激元的应用 | 第23-28页 |
| 1.3 表面等离激元的超快物理过程机理及研究现状 | 第28-33页 |
| 1.3.1 表面等离激元超快过程的物理机理 | 第28-31页 |
| 1.3.2 表面等离激元超快全光开关 | 第31-33页 |
| 1.4 金属光子结构的制备方法 | 第33-37页 |
| 1.4.1 电子束刻蚀技术 | 第34页 |
| 1.4.2 聚焦离子束刻蚀技术 | 第34-35页 |
| 1.4.3 相移光刻技术 | 第35-36页 |
| 1.4.4 纳米球刻蚀技术 | 第36页 |
| 1.4.5 干涉光刻技术 | 第36-37页 |
| 1.5 本文主要研究内容及创新点 | 第37-39页 |
| 第2章 激光干涉灼蚀直写金属光子结构 | 第39-55页 |
| 2.1 激光干涉灼蚀直写金属光子结构 | 第39-47页 |
| 2.1.1 金膜中纳米光栅的直写制备 | 第39-44页 |
| 2.1.2 纳米尺度金膜热传导的分析 | 第44-47页 |
| 2.2 基于柔性干涉灼蚀直写技术的金属光子结构制备 | 第47-54页 |
| 2.2.1 柔性干涉灼蚀直写系统的搭建 | 第48-49页 |
| 2.2.2 柔性干涉灼蚀直写金属光子结构的制备过程 | 第49-52页 |
| 2.2.3 金属光子结构的形貌及其光谱学特性 | 第52-54页 |
| 2.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第3章 基于紫外光还原反应的金属光子结构制备方法 | 第55-69页 |
| 3.1 基于银离子光还原反应的金属纳米结构的制备 | 第55-61页 |
| 3.1.1 光还原法的制备过程 | 第55-57页 |
| 3.1.2 光还原法制备机理分析 | 第57-61页 |
| 3.2 银纳米颗粒光栅结构的光谱学特性 | 第61-63页 |
| 3.3 退火温度对光栅结构的影响 | 第63-66页 |
| 3.4 硝酸银浓度对光栅结构的影响 | 第66-67页 |
| 3.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 第4章 三维金属光栅结构中的超快光物理过程 | 第69-83页 |
| 4.1 光栅结构的制备过程 | 第69-72页 |
| 4.2 光栅结构的光谱学特性 | 第72-74页 |
| 4.3 理论模拟及讨论 | 第74-77页 |
| 4.3.1 纳米线间距对等离激元共振波长的调节 | 第75-76页 |
| 4.3.2 杂化等离激元局域场分析 | 第76-77页 |
| 4.4 超快光物理学特性研究 | 第77-80页 |
| 4.4.1 瞬态吸收光谱学特性研究 | 第77-80页 |
| 4.4.2 共振模式动力学过程研究 | 第80页 |
| 4.5 超快全光开关性能研究 | 第80-81页 |
| 4.6 本章小结 | 第81-83页 |
| 第5章 金属半球纳米壳结构超快光学开关器件 | 第83-99页 |
| 5.1 半球纳米壳结构的制备过程 | 第83-84页 |
| 5.2 光谱学响应特性研究 | 第84-89页 |
| 5.2.1 单向激发多极性等离激元特性研究 | 第84-87页 |
| 5.2.2 多极性等离激元激发特性研究 | 第87-89页 |
| 5.3 多极性等离激元的理论模型 | 第89-92页 |
| 5.3.1 六极子等离激元 | 第89-90页 |
| 5.3.2 偶极子等离激元 | 第90-92页 |
| 5.4 多极性等离激元超快物理过程研究 | 第92-96页 |
| 5.4.1 瞬态吸收光谱特性研究 | 第92-94页 |
| 5.4.2 等离激元弛豫过程 | 第94-96页 |
| 5.5 半球纳米壳结构超快光学器件性能的研究 | 第96页 |
| 5.6 本章小结 | 第96-99页 |
| 结论及展望 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-113页 |
| 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第113-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
